[发明专利]一种具有宽带减反射作用的柔性水氧阻隔膜及其制备方法

权利要求书

1.一种柔性透明水氧阻隔膜，其特征在于：所述柔性透明水氧阻隔膜位于柔性透明基底以上；所述阻隔膜具有宽带减反射作用；所述阻隔膜的CIE色坐标的纵坐标值与标准白光的CIE色坐标的纵坐标值的之差的绝对值不超过0.1％，所述阻隔膜的CIE色坐标的横坐标值与标准白光的CIE色坐标的横坐标值的之差的绝对值不超过0.1％；

所述柔性透明水氧阻隔膜的制备方法，包括如下步骤：

(1)选定柔性透明基底、阻隔膜的膜材种类以及薄膜沉积工艺，使得所述柔性透明基底的玻璃化转变温度高于所述薄膜沉积工艺的工作温度，所述阻隔膜的膜材至少为两种，所述柔性透明基底的折射率介于所述阻隔膜选用的膜材的最高折射率与最低折射率之间；

(2)标定步骤(1)所述的薄膜沉积工艺的沉积速率、所述柔性透明基底的光学常数以及所述薄膜沉积工艺沉积制得的薄膜的光学常数；所述光学常数包括折射率n和消光系数k；

(3)确定目标宽带范围以及阻隔膜的层数，所述阻隔膜至少为两层，根据所述目标宽带范围、由所述目标宽带范围确定的参考波长、所述膜材种类、所述阻隔膜的层数以及步骤(2)标定的光学常数，调整每一层厚度的上限值和下限值，使得最终设计得到的具有多层结构的阻隔膜的总厚度不低于80nm，且不高于3微米，同时使该阻隔膜与所述柔性透明基底构成的复合膜在所述目标宽带范围内的透光率的最高值与最低值之差不超过4.2％，该复合膜在所述目标宽带范围内的绝对透光率不低于85％；所述阻隔膜与所述柔性透明基底构成的复合膜在430～730nm波段的最高透光率与最低透光率之差不大于4.2％；

(4)采用所述薄膜沉积工艺按照步骤(2)所述沉积速率将步骤(3)所述设计得到的具有多层结构的阻隔膜沉积在所述柔性透明基底上，得到具有宽带减反射作用的柔性透明水氧阻隔膜。

2.如权利要求1所述的柔性透明水氧阻隔膜，其特征在于，所述阻隔膜为多层结构，所述阻隔膜的总层数在2至20层范围内，所述阻隔膜中各层的厚度在10nm至400nm范围内，所述阻隔膜的总厚度不大于3微米。

3.如权利要求2所述的柔性透明水氧阻隔膜，其特征在于，所述阻隔膜的每一层可选用的膜材为氮化硅、氧化硅、氮氧化硅、氧化锆、氧化铪、氧化铝、氧化钛、氧化锌、氧化镁、氟化镁、硫化锌、氧化钼、氧化钨或氧化钽，所述阻隔膜至少选用两种不同的膜材。

4.如权利要求1所述的柔性透明水氧阻隔膜，其特征在于，所述柔性透明基底为PI、PET、PEN、PES、PDMS、PMMA或PC透明聚合物薄膜。

5.如权利要求1所述的柔性透明水氧阻隔膜，其特征在于，所述柔性透明基底为PI。

6.如权利要求1所述的柔性透明水氧阻隔膜，其特征在于，步骤(1)所述薄膜沉积工艺为物理气相沉积或化学气相沉积工艺，包括等离子增强化学气相沉积、原子层沉积、电子束蒸发、磁控溅射和/或真空热蒸发中的一种或几种。

7.如权利要求1所述的柔性透明水氧阻隔膜，其特征在于，步骤(3)所述参考波长为所述目标宽带范围内的中心波长。

8.如权利要求1所述的柔性透明水氧阻隔膜，其特征在于，步骤(3)所述每一层的厚度的上限值为100～150nm，下限值为20～30nm。