[发明专利]掩膜板、掩膜板的制造方法和蒸镀装置有效
| 申请号： | 201710525273.1 | 申请日： | 2017-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN107130209B | 公开（公告）日： | 2020-02-04 |
| 发明（设计）人： | 张文畅;马超;靳福江;杨文斌;曾望明;王永茂;黄世花 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24 |
| 代理公司： | 11201 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人： | 黄德海 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 掩膜板 掩膜 过渡层 掩膜条 焊接 第一表面 第二表面 焊接过程 焊接难度 使用寿命 相对设置 蒸镀装置 有效地 瑕疵 制造 | ||
1.一种掩膜板，其特征在于，包括：
掩膜框架，所述掩膜框架具有第一表面和第二表面，所述第一表面和所述第二表面在所述掩膜框架的厚度方向上相对设置，所述第一表面上设有过渡层，所述过渡层通过电铸工艺电铸在所述第一表面上，所述过渡层为电铸镍件、电铸钴件或电铸镍铁件；
掩膜条，所述掩膜条设在所述掩膜框架上且与所述过渡层相连，所述第一表面与所述掩膜条连接的部分设有所述过渡层，所述第一表面的其余部分不设置所述过渡层,所述过渡层的材质与所述掩膜条的材质相同，所述掩膜条为电铸镍件、电铸钴件或电铸镍铁件。
2.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述过渡层的晶体结构与所述掩膜条的晶体结构相同。
3.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述掩膜框架为因瓦合金件。
4.根据权利要求1-3中任一项所述的掩膜板，其特征在于，所述掩膜条焊接在所述过渡层上。
5.一种掩膜板的制造方法，其特征在于，所述掩膜板包括掩膜框架和掩膜条，所述掩膜框架具有在其厚度方向上相对设置第一表面和第二表面，所述掩膜条设在所述第一表面上，所述掩膜板的制造方法包括以下步骤：
在所述第一表面上电铸过渡层，所述过渡层的材质与所述掩膜条的材质相同；
将所述掩膜条焊接在所述过渡层上，其中，所述第一表面与所述掩膜条连接的部分设有所述过渡层，所述第一表面的其余部分不设置所述过渡层。
6.一种蒸镀装置，其特征在于，包括根据权利要求1-4中任一项所述的掩膜板。
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