[发明专利]一种瓷质抛光砖表面防污修复剂

说明书

本发明公开了一种瓷质抛光砖表面防污修复剂，属于建筑材料技术领域。本发明制备的瓷质抛光砖表面防污修复剂由A、B双组分构成，A组分是由80～100份无水乙醇，5～15份正硅酸乙酯，3～5份偶联剂，10～20份纳米二氧化钛，5～10份纳米氧化锌组成，B组分是由80～100份水，0.6～0.8份乳化剂，8～10份硅酸三钙，2～4份石膏组成，且B组分中还可以添加聚乙烯醇，使用时先涂抹A组分，再涂B组分。本发明技术方案所得产品瓷质抛光砖表面防污修复剂使用后，可在抛光砖表面形成连续、平滑的耐磨防污层，可有效阻断各种污染物侵入砖体，且可有效降低表面对可见光的吸收与散射，提高砖体表面光泽度。

技术领域

本发明公开了一种瓷质抛光砖表面防污修复剂，属于建筑材料技术领域。

背景技术

目前，瓷质抛光砖因其强度大、硬度高、耐磨性好、表面平整光亮、装饰图案丰富、仿石材效果逼真等特点，已被广泛地运用于各类现代建筑场所的装饰之中。但是，瓷质抛光砖的最大缺陷是在铺贴和使用过程中抗污性能差，尤其是被广大消费者青睐的超白抛光砖，在施工过程和日常使用中容易吸污，并且难以去除，从而影响其美观。抛光砖的防污问题一直困扰着生产厂家和光大用户。

瓷质抛光砖是以黏土、长石、石英等为主要原料，经过配料、造粒、成型、烧成、抛光等工序加工而成，矿物结构组成主要为石英、莫来石、玻璃相，其比例约为石英10~18%，莫来石12~40%，玻璃相35~40%，由于原料中存在有有机物和碳酸盐，抛光砖在高温烧成时会产生一定量的气体，并在产品内部和表面形成气孔，一般来说气孔率在3~10%之间，气孔尺寸在3~50μm之间。产品经过抛光加工后，表面的一些闭口气孔被破坏，成为开口气孔，普遍观点认为，表面开口气孔的存在，是抛光砖抗污性能差，容易吸污的主要原因。中国专利号“CN201610166925.2”公开了一种低成本抛光砖防污剂及其制备方法，是由硬脂酸、石蜡、溶剂、无水酒精调合而成，其主要是利用硬脂酸的表面活性作用渗透进入石材内部，利用具有疏水性能的石蜡覆盖在抛光砖表面，达到防止污水进入抛光砖微孔，起到防污效果的目的，该防污剂虽然成本低，使用方便，但石蜡覆盖层耐磨性能不佳，形成的防污层容易失效，使用过程中需要经常维护并重新涂膜，且因石蜡和硬脂酸皆为油溶性物质，因此产品对于油溶性污染物的防污效果较差。

因此，如何提高瓷质抛光砖的防污性能，并开发出更加有效的防污修复剂，使处理后的抛光砖具有优异、持久的防污性能，实现对抛光砖表面的完美修复，对于抛光砖的应用和后期维护具有重大现实意义。

发明内容

本发明主要解决的技术问题是：针对传统瓷质抛光砖采用的防污修复剂耐磨性差，形成的防污层易被磨损失效，需要重复维护，且形成的油性防污层对油溶性污染物防污效果不佳的问题，提供了一种瓷质抛光砖表面防污修复剂。

为了解决上述技术问题，本发明所采用的技术方案是：

一种瓷质抛光砖表面防污修复剂，是由A组分和B组分组成；

所述A组分是由以下重量份数的原料组成：80～100份无水乙醇，5～15份正硅酸乙酯，3～5份偶联剂，10～20份纳米二氧化钛，5～10份纳米氧化锌；

所述A组分具体配制过程为：按A组分原料配方称量各原料，先将无水乙醇和偶联剂搅拌混合均匀后，再加入纳米二氧化钛和纳米氧化锌，超声分散后，再加入正硅酸乙酯，继续搅拌混合均匀，即得A组分；

所述B组分是由以下重量份数的原料组成：80～100份水，0.6～0.8份乳化剂，8～10份硅酸三钙，2～4份石膏；

所述B组分具体配置过程为：按B组分原料配方称量各原料，先将水、乳化剂和硅酸三钙高速搅拌混合30～60min，再加入石膏，继续搅拌混合均匀，即得B组分；

将A组分和B组分分开封装，即构成瓷质抛光砖表面防污修复剂。

所述偶联剂为硅烷偶联剂、钛酸酯偶联剂或铝酸酯偶联剂中的任意一种。