[发明专利]硅石水洗筛分装置及方法

权利要求书

1.一种硅石水洗筛分装置，其特征在于，包括依次布置的给料装置、输送装置、水洗筛分装置和排渣排水装置，所述水洗筛分装置包括能够轴向转动以用于对硅石原料进行筛分的筛分筒和至少设置在所述筛分筒的开口处的用于对所述筛分筒内的硅石原料进行冲洗的喷头，所述筛分筒的外周壁上设置有开孔区，其中，给料装置通过所述输送装置将硅石原料运送至所述筛分筒内，所述筛分筒转动的同时开启所述喷头，从而使所述筛分筒内的硅石原料中的渣粒和冲洗水由所述开孔区漏至所述排渣排水装置。

2.根据权利要求1所述的硅石水洗筛分装置，其特征在于，所述筛分筒的开口与所述开孔区之间的距离为所述筛分筒的轴向长度的三分之一，且所述开孔区内的开孔的直径的范围小于等于100mm。

3.根据权利要求1或2所述的硅石水洗筛分装置，其特征在于，所述水洗筛分装置还包括可选择地开启或关闭的零时冲洗装置，所述零时冲洗装置与所述喷头通过进水管路并联在一起，所述进水管路与所述排渣排水装置的抽水管路相连通，并且所述零时冲洗装置的出水口与所述排渣排水装置的入口相对。

4.根据权利要求1所述的硅石水洗筛分装置，其特征在于，所述给料装置包括受料斗和设置在所述受料斗下方的给料机，所述给料机的出口与所述输送装置的入口相连，其中，所述受料斗的入口处设置有箅子，所述箅子的间隙大于等于250mm。

5.根据权利要求4所述的硅石水洗筛分装置，其特征在于，所述输送装置为带式输送机，所述带式输送机的传送带在自传送带的首端至传送带的末端的方向上倾斜设置，以使得所述传送带的末端高于所述传送带的首端，其中，所述传送带的首端设置在所述给料机的下方，所述传送带的末端设置有溜管，所述溜管的出口与所述筛分筒的入口相连。

6.根据权利要求1所述的硅石水洗筛分装置，其特征在于，所述硅石水洗筛分装置还包括成品输送装置，所述成品输送装置包括设置在所述筛分筒的出口处的出料斗，以及设置在所述出料斗的出口处的输送机。

7.根据权利要求1所述的硅石水洗筛分装置，其特征在于，所述排渣排水装置包括位于所述筛分筒的开孔区下方的排水沟、与所述排水沟相连的沉淀池、与所述沉淀池相连的清水池，以及与所述清水池相连的排水站。

8.根据权利要求7所述的硅石水洗筛分装置，其特征在于，所述排水沟在自所述排水沟的入口至所述排水沟的出口的方向上倾斜设置，以使得所述排水沟的入口高于所述排水沟的出口，其中，所述排水沟与水平面的夹角为1.5°至4.5°，并且所述排水沟的深度小于等于1m。

9.根据权利要求7或8所述的硅石水洗筛分装置，其特征在于，所述沉淀池包括顺次相连的沉渣区和平流沉淀区，所述沉渣区的底面包括靠近所述沉渣区的入口处的第一平面和与所述第一平面相连且朝向所述沉渣区的出口的方向延伸的第一斜面，其中，所述第一斜面的延伸端高于所述第一平面，且所述第一斜面与所述第一平面的夹角为150°至180°。

10.根据权利要求7或8所述的硅石水洗筛分装置，其特征在于，所述清水池包括顺次相连的一次清水池和二次清水池，所述一次清水池的底面高于所述二次清水池的底面，且所述一次清水池的底面包括靠近所述一次清水池的入口处的第二平面和与所述第二平面相连且朝向所述一次清水池的出口的方向延伸的第二斜面，其中，所述第二斜面的延伸端高于所述第二平面，且所述第二斜面与所述第二平面的夹角为150°至180°。

11.根据权利要求10所述的硅石水洗筛分装置，其特征在于，所述排水沟包括并列设置的两个出口，所述排水沟的两个出口分别连接有所述沉淀池，两个所述沉淀池平行设置，所述清水池位于两个所述沉淀池之间，其中，由所述排水沟的两个出口排出的硅石颗粒和冲洗水能够同时经相应的所述沉淀池后进入所述清水池。

12.根据权利要求10所述的硅石水洗筛分装置，其特征在于，所述排水站包括吸水井和提升泵，所述二次清水池、所述吸水井和提升泵顺次相连，其中，所述吸水井吸取所述二次清水池中的水并由所述提升泵通过所述排渣排水装置的抽水管路泵送至所述喷头或所述零时冲洗装置。