[发明专利]一种内置旋转阴极结构

说明书

本发明公开了一种内置旋转阴极结构，包括阴极门，所述阴极门的一侧下端设置有电机座，电机座的上端设置有靶电机，靶电机固定安装在电机座上，电机座的下端设置有同步轮；所述阴极门的另一侧设置有下端座和上端座；所述下端座的上端设置有下端盖、靶管和上端盖，同步轮与下端盖固定连接；所述下端盖的下端设置有磁流体。本内置旋转阴极结构的靶管采用旋转设计，使得靶面具有自清洁的作用，靶材的利用率高，磁极靴细长，提高了沉积膜厚的均匀性；采用磁流体的密封设计，适用于批量化生产的生产工艺，有利于大面积生产线真空腔体的模块化设计；整体磁极靴的长度可以根据工艺增加，阴极门结构通用性好，靶材利用率高和工艺稳定性强。

技术领域

本发明涉及磁控溅射技术领域，尤其是一种内置旋转阴极结构。

背景技术

磁控溅射技术作为一种十分有效的薄膜沉积方法，被广泛应用于微电子、光学薄膜和材料表面处理等领域中，用于薄膜沉积和表面覆盖层的制备，磁控溅射技术的工业化应用使得磁控溅射阴极的改进也广泛而普遍的展开，为了追求生产线的工作稳定性，工艺稳定性，膜层厚度的精确控制和设备的通用性等，在磁控溅射阴极上进行了大量的改进。为适应大面积批量化生产线的需要，由于旋转阴极结构具有自清洁、高效、工艺稳定和长工作时长的特点，而被广泛重视，并加以改进，但是现有的旋转阴极结构采用的是外置设计，不利于大面积连续生产，线形的腔体的通用设计，仅仅适合于腔体优化的单体光学镀膜机，因此需一种内置旋转阴极结构。

发明内容

本发明的目的在于提供一种内置旋转阴极结构，具有磁极靴的长度可以根据工艺增加，阴极门结构通用性好，靶材利用率高和工艺稳定性强，有利于大面积连续生产，以解决上述背景技术中提出阴极门结构通用性不佳，不利于大面积连续生产的问题。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种内置旋转阴极结构，包括阴极门，所述阴极门的一侧下端设置有电机座，电机座通过螺栓固定安装在阴极门上；所述电机座的上端设置有靶电机，靶电机固定安装在电机座上，电机座的下端设置有同步轮；所述阴极门的另一侧设置有下端座和上端座，下端座与阴极门间设置有绝缘座，下端座通过绝缘座与阴极门由紧固螺丝紧固连接；所述上端座的侧端设置有固定座，固定座固定焊接在阴极门的上侧端，固定座的上端面设置有固定销，上端座通过固定销固定安装在固定座的上端；所述下端座的上端设置有下端盖、靶管和上端盖，同步轮与下端盖紧固连接，下端盖和上端盖与靶管采用密封紧固连接；所述下端盖的下端设置有磁流体，磁流体的下端设置有紫铜同步轮，紫铜同步轮固定接触安装在磁流体的下端；所述紫铜同步轮的侧端设置有碳刷，碳刷通过导线与靶管电连接；所述靶管的侧端设置有靶材；靶材焊接在靶管上；所述上端座的下端设置有上轴承，上端座紧固安装在上轴承上，上端盖紧固安装在上轴承的内环上；所述上轴承的下端设置有进水管，进水管的上端设置有水管套，水管套固定套接在进水管的上端；所述下端盖的上端设置有进出水管，进出水管的侧端设置有分水器，分水器的一端与进出水管连接，分水器另一端与进水管连接；所述进水管的侧端设置有磁极靴，磁极靴的侧端设置有磁极锁，磁极靴通过磁极锁紧固安装在进水管上；所述磁极靴的外侧端设置有磁极盖，磁极靴的侧端设置有S极永磁体A、N极永磁铁和S极永磁体B，S极永磁体A、N极永磁铁和S极永磁体B由磁极盖与磁极靴密封紧固连接封在由磁极盖与磁极靴构成的真空腔体内。

作为本发明进一步的方案：所述阴极门与真空腔体配合使用，阴极门工作的极限真空为10^-5帕斯卡，且工作真空范围为0.01-10帕斯卡。

作为本发明进一步的方案：所述阴极门可以任意角度安装。

作为本发明进一步的方案：所述阴极门可采用一个进行单阴极安装，也可采用两个进行孪生阴极安装，且可采用多个进行多阴极安装。

作为本发明进一步的方案：所述阴极门适合采用单路直流溅射电源、中频溅射电源、双路直流溅射电源和双路脉冲直流溅射电源。