[发明专利]一种聚四氟乙烯与氧化铝原子层复合减反膜的制备方法有效
申请号: | 201710508231.7 | 申请日: | 2017-06-28 |
公开(公告)号: | CN107337356B | 公开(公告)日: | 2020-05-22 |
发明(设计)人: | 张政军;乐雅;淮晓晨 | 申请(专利权)人: | 清华大学 |
主分类号: | C03C17/42 | 分类号: | C03C17/42 |
代理公司: | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人: | 邸更岩 |
地址: | 100084 北京市海淀区1*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 聚四氟乙烯 氧化铝 原子 复合 减反膜 制备 方法 | ||
1.一种聚四氟乙烯与氧化铝原子层复合减反膜的制备方法,其特征在于该方法包括如下步骤:
1)利用电子束蒸镀方法,先将沉积角度设定为0°,在透明或半透明的基底上沉积一层反射率为1.30~1.50的致密聚四氟乙烯层;
2)将沉积角度设定为80°,再在获得的致密聚四氟乙烯层上沉积一层反射率为1.15~1.25的多孔聚四氟乙烯纳米棒层,得到双层聚四氟乙烯膜;
3)将获得的双层聚四氟乙烯膜放入原子层沉积设备中,循环次数设置为5~15,原子层沉积流量10~20SCCM;氧化铝包覆层的厚度6~7nm。
2.按照权利要求1所述的一种聚四氟乙烯与氧化铝原子层复合减反膜的制备方法,其特征在于:步骤1)中所述电子束蒸镀的沉积速率为
3.根据权利要求1或2所述的一种聚四氟乙烯与氧化铝原子层复合减反膜的制备方法,其特征在于:所述透明或半透明的基底包括石英片、BK7、SF5、LAK14、FTO和派莱克斯玻璃中的任一种,它们的折射率在1.45~1.95之间。
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