[发明专利]一种聚四氟乙烯与氧化铝原子层复合减反膜的制备方法有效

专利信息
申请号: 201710508231.7 申请日: 2017-06-28
公开(公告)号: CN107337356B 公开(公告)日: 2020-05-22
发明(设计)人: 张政军;乐雅;淮晓晨 申请(专利权)人: 清华大学
主分类号: C03C17/42 分类号: C03C17/42
代理公司: 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 代理人: 邸更岩
地址: 100084 北京市海淀区1*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 聚四氟乙烯 氧化铝 原子 复合 减反膜 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种聚四氟乙烯与氧化铝原子层复合减反膜的制备方法,其特征在于该方法包括如下步骤:

1)利用电子束蒸镀方法,先将沉积角度设定为0°,在透明或半透明的基底上沉积一层反射率为1.30~1.50的致密聚四氟乙烯层;

2)将沉积角度设定为80°,再在获得的致密聚四氟乙烯层上沉积一层反射率为1.15~1.25的多孔聚四氟乙烯纳米棒层,得到双层聚四氟乙烯膜;

3)将获得的双层聚四氟乙烯膜放入原子层沉积设备中,循环次数设置为5~15,原子层沉积流量10~20SCCM;氧化铝包覆层的厚度6~7nm。

2.按照权利要求1所述的一种聚四氟乙烯与氧化铝原子层复合减反膜的制备方法,其特征在于:步骤1)中所述电子束蒸镀的沉积速率为

3.根据权利要求1或2所述的一种聚四氟乙烯与氧化铝原子层复合减反膜的制备方法,其特征在于:所述透明或半透明的基底包括石英片、BK7、SF5、LAK14、FTO和派莱克斯玻璃中的任一种,它们的折射率在1.45~1.95之间。

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