[发明专利]光学装置有效
| 申请号: | 201710499401.X | 申请日: | 2017-06-27 |
| 公开(公告)号: | CN107544105B | 公开(公告)日: | 2021-07-23 |
| 发明(设计)人: | J.赛德尔;M.特维斯;K.梁;J.齐巴;J.J.库纳;保罗·T·科尔曼 | 申请(专利权)人: | 唯亚威通讯技术有限公司 |
| 主分类号: | G02B5/12 | 分类号: | G02B5/12;G02B5/22;G02B5/26 |
| 代理公司: | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人: | 张瑞;杨明钊 |
| 地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 光学 装置 | ||
1.一种片材,包括:
反射器,所述反射器具有第一表面、与所述第一表面相反的第二表面、和第三表面;
在所述反射器的第一表面外部的第一选择性光调制器层;以及
在所述反射器的第二表面外部的第二选择性光调制器层;
其中,所述反射器的第三表面是敞开的;以及
其中,所述第一选择性光调制器层和所述第二选择性光调制器层中的至少一个包括固化剂、基质材料,和选择性光调制器颗粒;
其中所述基质材料包括热塑性塑料、热固性材料和能量可固化材料中的至少一种;以及
其中所述选择性光调制器颗粒包括色移颗粒、染料、颜料、量子点、硫族化合物、碳酸盐、胶束和氟化物中的至少一种。
2.根据权利要求1所述的片材,其中,所述第一选择性光调制器层和所述第二选择性光调制器层中的至少一个选择性地吸收特定的能量波长。
3.根据权利要求1所述的片材,其中,所述第一选择性光调制器层和所述第二选择性光调制器层中的至少一个控制所述片材的折射率。
4.根据权利要求1所述的片材,其中,所述第一选择性光调制器层和所述第二选择性光调制器层中的至少一个包括基质材料和选择性光调制器系统,所述选择性光调制器系统包括所述选择性光调制器颗粒。
5.根据权利要求1所述的片材,其中,所述固化剂为自由基发生剂、酸发生剂、缩合引发剂或酸/碱催化剂。
6.根据权利要求1所述的片材,其中所述第一选择性光调制器层和所述第二选择性光调制器层中的至少一个包括具有光引发剂、氧抑制减缓组分、均化剂或消泡剂中的至少一种的组合物。
7.根据权利要求1所述的片材,其中所述热塑性塑料包括聚酯、聚烯烃、聚碳酸酯、聚酰胺、聚酰亚胺、聚氨酯、丙烯酸酯、聚醚、聚硫醇、硅酮、碳氟化合物及其各种共聚物。
8.根据权利要求1所述的片材,其中所述基质材料是脂环族环氧树脂,以及所述反射器是铝。
9.根据权利要求8所述的片材,其中所述选择性光调制器颗粒是二酮吡咯并吡咯。
10.根据权利要求1所述的片材,其中所述基质材料是丙烯酸酯低聚物树脂,以及所述选择性光调制器颗粒是二氧化钛。
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