[发明专利]一种还原降解有机污染物的纳米铜阵列阴极及其制备与应用在审
| 申请号: | 201710496646.7 | 申请日: | 2017-06-26 |
| 公开(公告)号: | CN107244717A | 公开(公告)日: | 2017-10-13 |
| 发明(设计)人: | 张芳;刘波;陈文锶;李广贺;陆奇;张旭;侯德义 | 申请(专利权)人: | 清华大学 |
| 主分类号: | C02F1/461 | 分类号: | C02F1/461;C25D3/38;C25D5/34;C25D7/00;C02F101/30 |
| 代理公司: | 西安智大知识产权代理事务所61215 | 代理人: | 段俊涛 |
| 地址: | 100084 北京市海淀区1*** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 还原 降解 有机 污染物 纳米 阵列 阴极 及其 制备 应用 | ||
1.一种还原降解有机污染物的纳米铜阵列阴极,其特征在于,包括基底材料以及负载于基底材料表面的纳米铜片阵列,所述纳米铜片长小于500nm,宽小于100nm,厚小于10nm,纳米片分布均匀,结构稳定。
2.根据权利要求1所述还原降解有机污染物的纳米铜阵列阴极,其特征在于,所述基底材料为泡沫金属,韧带宽50~100μm,孔径100~300μm,孔隙率70~90%,所述纳米铜片阵列通过恒定电势电沉积负载于基底材料表面。
3.根据权利要求2所述还原降解有机污染物的纳米铜阵列阴极,其特征在于,所述泡沫金属为泡沫铜、泡沫铁、泡沫镍及铜、铁、镍泡沫合金中的一种。
4.权利要求1所述的还原降解有机污染物的纳米铜阵列阴极的制备方法,其特征在于,步骤如下:
(1)将基底材料用丙酮、无水乙醇中的一种超声浸泡15~30分钟,清洗后再用质量浓度1%的盐酸、硫酸溶液中的一种超声浸泡15~30分钟,进行表面清洁预处理,最后用超纯水清洗后干燥备用;
(2)以铜的可溶盐溶液为基础电解液,加入无机酸、缓冲盐调控溶液pH,通过添加剂控制铜在电极表面的沉积形貌,配制电沉积电解液;
(3)以惰性材料或铜材料为阳极,基底材料为阴极,Ag/AgCl/饱和KCl电极为参比电极,在三电极体系下,控制阴极恒电势进行电沉积,沉积结束后用超纯水清洗干净,干燥。
5.根据权利要求4所述还原降解有机污染物的纳米铜阵列阴极的制备方法,其特征在于,所述步骤(2)中铜的可溶盐为硫酸铜、氯化铜、硝酸铜中的一种;所述的无机酸为硼酸,缓冲盐为磷酸二氢钠、磷酸氢二钠、次磷酸氢钠中的一种和柠檬酸钠;所述添加剂至少有硫酸镍,或者为硫酸镍与聚乙二醇等表面活性剂的混合;所述步骤(3)中阳极材料为惰性材料铂、混合氧化物(MMO)、石墨中的一种,或为泡沫铜、铜板、铜箔、铜棒中的一种。
6.根据权利要求4或5所述还原降解有机污染物的纳米铜阵列阴极的制备方法,其特征在于,所述配置电解液中铜的可溶盐浓度为0.01~0.1M,硼酸为0.1~0.6M,缓冲盐为0.1~0.3M,柠檬酸钠为0.01~0.1M,硫酸镍为0.001~0.01M,聚乙二醇为0~10mg/L;调控电解液的pH为6~9。
7.根据权利要求4或5所述还原降解有机污染物的纳米铜阵列阴极的制备方法,其特征在于,所述步骤(3)阴极恒电势条件为-2~-0.34V,室温下电沉积0~30分钟,且不包括0分钟。
8.权利要求1所述的还原降解有机污染物的纳米铜阵列阴极的应用,其特征在于,用于有机污染水处理领域,将该纳米铜阵列阴极与对电极组成电解池,水流状态为静态或流动态,在0~20mA/cm2且不包括0mA/cm2电流密度下进行电解反应。
9.根据权利要求8所述还原降解有机污染物的纳米铜阵列阴极的应用,其特征在于,所述的有机污染物为卤代烃类、硝基芳香烃类、卤代芳香烃类、卤代苯酚类等可被还原降解污染物中的一种或多种。
10.根据权利要求8所述还原降解有机污染物的纳米铜阵列阴极的应用,其特征在于,所述的对电极为混合氧化物(MMO)电极、铂电极、石墨电极、玻碳电极、铁电极、不锈钢电极中的一种或几种电极构成电极序列。
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