[发明专利]掩膜及其制备方法

说明书

一种掩膜，其包括塑料层及与所述塑料层结合的框体和多个磁性元件，所述塑料层包括相对的第一表面和第二表面，所述框体设置在所述塑料层的第一表面且覆盖第一表面的周边，所述多个磁性元件设置在所述塑料层的第一表面，所述塑料层上开设有贯穿所述第一表面和所述第二表面的多个开口，沿每一个磁性元件与第一表面结合的一端指向每一个磁性元件远离第一表面的一端，每一个磁性元件逐渐变细。所述掩膜用于沉积OLED显示面板，可降低或避免Shadow Effect。本申请还提供所述掩膜的制备方法。

技术领域

本发明涉及一种掩膜及其制备方法，尤其涉及一种用于沉积OLED显示面板的掩膜及其制备方法。

背景技术

有机发光二极管(OLED)显示面板的制备通常包括采用气相沉积的方式在衬底(如薄膜晶体管衬底)上形成有机发光材料层的步骤。而沉积有机发光材料层的步骤需要使用一掩膜，所述掩膜设置在衬底(如薄膜晶体管衬底)上，掩膜上开设有多个通孔，蒸发源蒸发的材料通过掩膜上的通孔沉积到衬底(如薄膜晶体管衬底)上。每一个通孔处沉积的材料对应形成OLED显示面板的一个子像素。通常每个通孔的尺寸设计成与每一个子像素的尺寸相当。然而，最终使用该掩膜沉积形成的子像素常常大于设定的子像素的尺寸。例如，当设定的子像素图案的宽度为x，长度为y，若设置掩膜上的通孔的尺寸与子像素图案的尺寸相同，由于使用掩膜和蒸镀工艺在衬底上形成的子像素图案的过程中形成掩膜与衬底之间存在间隙，使得实际制得的子像素图案的宽度会大于x，长度会大于y；此现象称之为shadoweffect。因此，掩膜对OLED显示面板的生产精度以及性能有重要影响。

发明内容

鉴于以上内容，有必要提供一种能够降低shadow effect的掩膜及其制备方法。

一种掩膜，其包括塑料层及与所述塑料层结合的框体和多个磁性元件，所述塑料层包括相对的第一表面和第二表面，所述框体设置在所述塑料层的第一表面且覆盖第一表面的周边，所述多个磁性元件设置在所述塑料层的第一表面，所述塑料层上开设有贯穿所述第一表面和所述第二表面的多个开口，沿每一个磁性元件与第一表面结合的一端指向每一个磁性元件远离第一表面的一端，每一个磁性元件逐渐变细。

一种掩膜的制备方法，其包括如下步骤：

提供一金属板，在所述金属板的一表面上形成一塑料层；

对所述金属板进行局部蚀刻，蚀刻后的金属板形成为框体，该框体覆盖所述塑料层的周边；

在所述塑料层具有所述框体的表面形成间隔设置的多个磁性元件，沿远离塑料层的方向每一个磁性元件逐渐变细；

在所述塑料层未被所述框体和所述多个磁性元件覆盖的区域上开设贯穿所述塑料层的多个开口。

一种掩膜的制备方法，其包括如下步骤：

提供一金属板，在所述金属板的一表面上形成一塑料层，所述金属板的材质为具有磁性的金属或合金；

对所述金属板进行局部蚀刻，蚀刻后的金属板形成为框体和间隔设置的多个磁性元件，该框体覆盖所述塑料层的周边，所述多个磁性元件被所述框体所围绕；

在所述塑料层未被所述框体和所述多个磁性元件覆盖的区域上开设贯穿所述塑料层的多个开口。

所述掩膜具有磁性，沉积过程中掩膜与沉积设备中用于支撑待沉积的衬底的磁板相互吸引，使掩膜与待沉积的衬底之间更紧密的结合，降低或者避免造成Shadow Effect；此外，磁性元件的形状设计利于沉积过程中引导蒸镀材料进入开口时的入射角度，使蒸镀材料沉积到衬底的预定的位置，进一步降低或者避免Shadow Effect。所述掩膜的制备方法工艺简单。

附图说明

图1是本发明较佳实施方式的掩膜的平面示意图。

图2是图1沿剖面线II-II剖开的剖面示意图。