[发明专利]柔性触摸屏的制作方法及柔性触摸屏

说明书

技术领域

本申请涉及显示面板技术领域，尤其涉及柔性触摸屏的制作方法及柔性触摸屏。

背景技术

随着有机发光二极管(Organic Light Emitting Diode，OLED)显示技术的逐渐成熟，柔性显示技术也受到了越来越多的市场关注。在柔性显示屏上包括基底和导电层，基底采用柔性透明材料制作，导电层通常由氧化铟锡(ITO)制作。但是由于ITO的弯折性能较差，当柔性显示屏的弯曲程度较大时，导电层的导电性能会急剧下降，影响柔性显示屏的显示性能。因此，如何提高柔性显示屏导电层弯折之后的显示性能，是本发明需要解决的技术问题。

发明内容

本申请实施例提供了柔性触摸屏的制作方法及柔性触摸屏，能够用于解决现有技术中的问题。

本申请实施例提供了一种柔性显示屏的制作方法，该方法包括：

在所提供的柔性基底上生成金属纳米材料层；

在所述金属纳米材料层上生成ITO层；

对所述金属纳米材料层以及所述ITO层进行图形化，用于在所述柔性基底上生成柔性显示屏的导电层。

优选地，在所提供的柔性基底上生成金属纳米材料层，具体包括：

将金属纳米材料的溶液均匀分布在所提供的柔性基底上；

将金属纳米材料的溶液中的溶剂蒸发，用于在所述柔性基底上生成金属纳米材料层。

优选地，在所述金属纳米材料层上生成ITO层，具体包括：

将ITO溶液均匀分布在所述金属纳米材料层上；

将ITO溶液中的溶剂蒸发，用于在所述金属纳米材料层上生成ITO层。

优选地，在所述金属纳米材料层上生成ITO层，具体包括：

利用物理气相沉积PVD在所述金属纳米材料层上生成ITO层。

优选地，根据所述柔性基底以及所述导电层制作柔性显示屏，具体包括：

在所述导电层上制作柔性保护层，并在所述柔性基底的背面生成信号屏蔽层，用于生成柔性显示屏。

优选地，对所述金属纳米材料层以及所述ITO层进行图形化，具体包括：

在所述ITO层上生成保护层；

通过带沟道的掩模板对所述保护层进行遮挡；

将通过所述掩模板进行遮挡之后的保护层曝光和显影，用于在所述保护层形成沟道；

清除沟道中的ITO以及金属纳米材料。

优选地，在清除沟道中的ITO以及金属纳米材料之后，所述方法还包括：清除保护层。

优选地，所述金属纳米材料具体为：金属纳米线。

优选地，所述金属纳米线的金属具体为：电导率大于预设电导率的金属或金属合金。

本申请实施例还提供了一种柔性显示屏，所述柔性显示屏通过本申请是试题所提供的任意一项柔性显示屏的制作方法制作得到。

本申请实施例采用的上述至少一个技术方案能够达到以下有益效果：

采用本申请实施例所提供的柔性触摸屏的制作方法，在所提供的柔性基底上生成金属纳米材料层，在金属纳米材料层上生成ITO层；对金属纳米材料层以及ITO层进行图形化，用于在柔性基底上生成导电层；根据柔性基底以及导电层制作柔性显示屏。由于通过图形化所得到的导电层包括金属纳米材料层和ITO层，ITO能够嵌入金属纳米材料之间，即使柔性显示屏弯曲程度较大，ITO碎裂成微米尺度的小碎片，小碎片自身导电性能依然优秀，小碎片之间可以通过金属纳米材料进行串连，使得导电层也能够有较好的导电性能，因此能够解决现有技术中的问题。

附图说明

此处所说明的附图用来提供对本申请的进一步理解，构成本申请的一部分，本申请的示意性实施例及其说明用于解释本申请，并不构成对本申请的不当限定。在附图中：

图1本申请实施例所提供的柔性触摸屏的制作方法的流程示意图；

图2本申请实施例所提供的柔性触摸屏的制作方法的场景示意图

图3为本申请实施例提供的柔性触摸屏的横截面结构图；

图4为本申请实施例提供的柔性触摸屏的导电层和基底俯视图；

图5为本申请实施例提供的柔性触摸屏的制作方法，在实际应用中的场景示意图；

图6为本申请实施例提供的柔性触摸屏的制作方法，在实际应用中的流程示意图。

具体实施方式