[发明专利]一种IV类围岩隧道光面的爆破方法在审

专利信息
申请号: 201710492112.7 申请日: 2017-06-26
公开(公告)号: CN107218860A 公开(公告)日: 2017-09-29
发明(设计)人: 钟金盛;王霆;汪兵;刘延科;陈慧;车传东;纵向群;张范立 申请(专利权)人: 国家电网公司;国网新源控股有限公司;安徽金寨抽水蓄能有限公司
主分类号: F42D1/00 分类号: F42D1/00;F42D1/10
代理公司: 杭州新源专利事务所(普通合伙)33234 代理人: 郑双根
地址: 100017 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 iv 围岩 隧道 光面 爆破 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种隧道光面的爆破方法,特别是一种用于IV类围岩的小型隧道光面的爆破方法。

背景技术

目前,一些铁路、公路等大型隧道光面爆破的方法已经比较成熟,但是一些小型隧道光面的爆破方法还比较滞后,由于和大型隧道光面爆破方法存在一些爆破参数上的不同,不能直接按洞身比例改变爆破参数。目前的小型隧道光面爆破采用的是钻孔后进行一次性爆破,每个孔都安装炸药的爆破方法。因此,目前的小型隧道光面爆破方法存在没有分层次爆破、钻孔不合理、炸药消耗量大、爆破面不规则的缺点。

发明内容

本发明的目的在于,提供一种IV类围岩隧道光面的爆破方法。它具有钻孔合理、进行分层爆破、炸药消耗量低、爆破面规则的优点。

本发明的技术方案:一种IV类围岩隧道光面的爆破方法,其特征在于,包括以下步骤:

步骤一,测量确定IV类围岩隧道的开挖区域及开挖边界;

步骤二,将步骤一的开挖区域由内至外分为三个层次,对每个层次的边界进行定位开眼;

步骤三,将步骤二定位开眼的炮眼按照IV类围岩爆破参数分别进行钻孔;

步骤四,按照IV类围岩爆破参数分别在炮孔里安装相应的炸药量;

步骤五,将安装完的炸药按层次由内至外进行引爆;

上述步骤中三个层次的边界均采用直孔掏槽;最内层为掏槽孔;中间层为崩落孔;最外层的上端为顶孔,两侧为边墙孔,底端为底孔;掏槽孔、崩落孔、顶孔、边墙孔、底孔的钻孔深度均为1.7m,孔径均为42mm;每个层次边界之间均设有0.6m至0.8m的安全爆炸距离;在最内层和中间层采用连续安装炸药,在最外层采用间隔安装炸药,炸药选用岩石乳化炸药,采用导爆索和竹片捆绑装药,装药完成后进行封堵。

前述的一种IV类围岩隧道光面的爆破方法中,所述的掏槽孔分布在最内层的边界,以5个孔为一组等间距地分布在最内层边界的两侧。

前述的一种IV类围岩隧道光面的爆破方法中,所述的崩落孔分布在中间层的边界,在中间层边界的两侧分别以3个孔为一组等间距地分布;在中间层边界的顶端等间距地分布有5个孔。

前述的一种IV类围岩隧道光面的爆破方法中,所述底孔分布在最外层边界的底端,总共设置5个孔等间距地分布。

前述的一种IV类围岩隧道光面的爆破方法中,所述边墙孔分布在最外层边界的两侧,每一侧均以7个孔为一组等间距地分布。

前述的一种IV类围岩隧道光面的爆破方法中,所述的顶孔分布最外层边界的顶端,总共设置11个孔等间距地分布。

与现有技术相比,本发明采用三层式IV类围岩炮孔的布置方法,钻孔均采用直孔掏槽;在最内层和中间层采用连续安装炸药,在最外层采用间隔安装炸药,极大程度的节省了炸药的用量;炸药选用岩石乳化炸药,采用导爆索和竹片捆绑装药,装药完成后进行封堵;炮孔爆破的顺序由内至外,先爆破最内层,再爆破中间层,最后爆破最外层。通过上述的爆破方法和步骤实现了隧道光面爆破规则、总体炸药消耗量低的效果。

附图说明

图1是IV类围岩断面炮孔布置图。

附图中的标记为:1-掏槽孔,2-崩落孔,3-顶孔,4-边墙孔,5-底孔。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本发明作进一步的说明,但并不作为对本发明限制的依据。

实施例:一种IV类围岩隧道光面的爆破方法,其特征在于,包括以下步骤:

步骤一,测量确定IV类围岩隧道的开挖区域及开挖边界;

步骤二,将步骤一的开挖区域由内至外分为三个层次,对每个层次的边界进行定位开眼;

步骤三,将步骤二定位开眼的炮眼按照IV类围岩爆破参数分别进行钻孔;

步骤四,按照IV类围岩爆破参数分别在炮孔里安装相应的炸药量;

步骤五,将安装完的炸药按层次由内至外进行引爆;

上述步骤中三个层次的边界均采用YT-28手风钻直孔掏槽,炮孔布置如图1所示,最内层为掏槽孔1;中间层为崩落孔2;最外层的上端为顶孔3,两侧为边墙孔4,底端为底孔5;掏槽孔1、崩落孔2、顶孔3、边墙孔4、底孔5的钻孔深度均为1.7m,孔径均为42mm;每个层次边界之间均设有0.6m至0.8m的安全爆炸距离;在最内层和中间层采用连续安装炸药,在最外层采用间隔安装炸药,炸药选用岩石乳化炸药,采用导爆索和竹片捆绑装药,装药完成后进行封堵。

所述的掏槽孔1分布在最内层的边界,以5个孔为一组等间距地分布在最内层边界的两侧。

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