[发明专利]一种用于扫描系统校正的模体组件在审
| 申请号： | 201710487429.1 | 申请日： | 2017-06-23 |
| 公开（公告）号： | CN107184226A | 公开（公告）日： | 2017-09-22 |
| 发明（设计）人： | 刘炎炎 | 申请（专利权）人： | 上海联影医疗科技有限公司 |
| 主分类号： | A61B6/03 | 分类号： | A61B6/03 |
| 代理公司： | 成都七星天知识产权代理有限公司51253 | 代理人： | 杨永梅 |
| 地址： | 201807 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 用于 扫描 系统 校正 组件 | ||
【权利要求书】：
1.一种用于扫描系统校正的模体组件，其特征在于，包括至少两个模体及一个隔离装置；所述隔离装置放置在所述两个模体之间，使得所述两个模体至少部分地被所述隔离装置所隔离。
2.权利要求1所述的模体组件，其特征在于，所述隔离装置的尺寸由所述隔离装置的材料、所述隔离装置所隔离模体的尺寸和材料、所述隔离装置相邻的所述模体的相对位置决定。
3.权利要求1所述的模体组件，其特征在于，所述隔离装置采用对射线有高吸收性能的材料。
4.权利要求3所述的模体组件，其特征在于，所述高吸收性能的材料采用钢、钨或铅。
5.权利要求3所述的模体组件，其特征在于，所述隔离装置采用对射线有高吸收性能的材料采用重金属。
6.权利要求1所述的模体组件，其特征在于，所述隔离装置与模体之间的连接为固定连接或非固定连接。
7.一种用于扫描系统校正的模体组件的制造方法，其特征在于，使用至少一个隔离装置；所述至少一个隔离装置放置在模体之间，使得所述模体被所述隔离装置两两隔离。
8.权利要求7所述的制造方法，其特征在于，所述隔离装置的尺寸由所述隔离装置的材料、所述隔离装置所隔离模体的尺寸、材料和位置决定。
9.权利要求7所述的制作方法，其特征在于，所述隔离装置与模体之间的连接为固定连接或非固定连接。
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