[发明专利]一种新型全幅逻辑光纹无缝材料膜生产制造工艺

权利要求书

1.一种新型全幅逻辑光纹无缝材料膜生产制造工艺，其特征在于：包括如下步骤：

(1)图案制作

设计制作逻辑光纹/折光图案，并利用镭射全息光刻机，将图案刻到玻璃板上；

(2)电铸制作图案镍板

将处理好的带有图像的不锈钢板用专用夹具夹好，放入快速电铸镍槽内进行电铸，电镀完后将铸好的不锈钢板洗净干燥，然后用转移膜将电镀后的图案完整地剥离下来；

(3)涂布

采用热熔胶喷挤涂布，将固态胶经加热融化后，由液压装置将胶经涂布头直接喷涂在材料上，涂布量为80-100g/㎡，运行速度为40-60m/min；

(4)膜压

利用膜压工艺将图案压到经涂布涂层的薄膜上；

(5)真空镀铝

将铝原子堆积到优质PET薄膜上而形成阻隔性薄膜，所述镀铝厚度为0.02-0.06μm，且镀铝层均匀。

(6)成品检验

对镀层进行厚度检验，在纵向110-130m内测定10个点，厚度误差小于10％，横向测定18个点，误差小于5％。

2.按照权利要求1所述的一种新型全幅逻辑光纹无缝材料膜生产制造工艺，其特征在于：所述步骤(1)纹路深度1.5-2.1U。

3.按照权利要求1所述的一种新型全幅逻辑光纹无缝材料膜生产制造工艺，其特征在于：所述步骤(2)先印上光致成像耐电镀感光胶，晒版显影后，进行后曝光处理以增加感光胶的耐镀性。

4.按照权利要求1所述的一种新型全幅逻辑光纹无缝材料膜生产制造工艺，其特征在于：所述步骤(3)涂布头采用新无刮痕热熔胶涂布头。

5.按照权利要求4所述的一种新型全幅逻辑光纹无缝材料膜生产制造工艺，其特征在于：所述步骤(4)膜压工艺采用圆压圆工艺压制。

6.按照权利要求1所述的一种新型全幅逻辑光纹无缝材料膜生产制造工艺，其特征在于：所述步骤(5)真空度值为10^-4-10^-5mba。

7.按照权利要求1所述的一种新型全幅逻辑光纹无缝材料膜生产制造工艺，其特征在于：所述步骤(6)厚度检验后利用黏胶带检查附着力，撕下胶带时镀层不会随后脱落，紫外线通过率3-5％。