[发明专利]铜/钼膜或铜/钼合金膜的蚀刻液组合物有效
| 申请号： | 201710479974.6 | 申请日： | 2014-01-10 |
| 公开（公告）号： | CN107227463B | 公开（公告）日： | 2020-05-19 |
| 发明（设计）人： | 金世训;李恩庆;李宝妍;申孝燮 | 申请（专利权）人： | 易安爱富科技有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/44 | 分类号： | C23F1/44 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 蔡胜有 |
| 地址： | 韩国首尔市江南区奉恩*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 合金 蚀刻 组合 | ||
【权利要求书】：
1.一种铜/钼膜或铜/钼合金膜的蚀刻液组合物，对于组合物的总重量，包含：
20至30％重量的过氧化氢，
0.1至1.0％重量的蚀刻抑制剂，
1至3％重量的螯合剂，
0.1至1％重量的蚀刻添加剂，
0.01至2％重量的氟化物，
0.1％重量至0.2％重量的蚀刻稳定剂，和
余量的水且使全部组合物的总重量为100％重量；
其中所述蚀刻抑制剂是氨基四唑或甲基四唑；
所述螯合剂是亚氨基二乙酸；
所述蚀刻添加剂是硫酸盐；
所述蚀刻稳定剂是三乙醇胺；并且
所述氟化物是离解出HF2-离子的化合物。
2.根据权利要求1所述的铜/钼膜或铜/钼合金膜的蚀刻液组合物，还包括玻璃蚀刻抑制剂。
3.根据权利要求2所述的铜/钼膜或铜/钼合金膜的蚀刻液组合物，其中所述玻璃蚀刻抑制剂是含有硼的化合物。
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