[发明专利]机械加工夹具及其使用方法在审
申请号: | 201710476129.3 | 申请日: | 2017-06-21 |
公开(公告)号: | CN109093418A | 公开(公告)日: | 2018-12-28 |
发明(设计)人: | 姚力军;潘杰;相原俊夫;王学泽;罗明浩;谢焕焕 | 申请(专利权)人: | 宁波江丰电子材料股份有限公司 |
主分类号: | B23Q3/06 | 分类号: | B23Q3/06 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 吴敏 |
地址: | 315400 浙江省宁波*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 底座 环状工件 盖板 固定孔 机械加工夹具 固定部件 接刀痕迹 平行设置 变形度 棱台状 同心度 圆台状 贯穿 侧壁 夹持 减小 受力 | ||
本发明提供一种机械加工夹具及其使用方法,机械加工夹具包括:底座,所述底座中设置有至少一个第一固定孔,所述第一固定孔至少贯穿所述底座部分厚度;盖板,与所述底座平行设置,所述盖板为圆台状或棱台状,其中面积小的端面面向所述底座,所述盖板中设置有至少一个贯穿所述盖板的第二固定孔;至少一个固定部件,用于连接所述第二固定孔和第一固定孔。采用本发明所述机械加工夹具对环状工件进行夹持时,能够避免出现环状工件受力的问题,减小所述环状工件的变形度、提高所述底座、环状工件和盖板的同心度,且避免所述环状工件侧壁出现接刀痕迹。
技术领域
本发明涉及半导体制造领域,尤其涉及一种机械加工夹具及其使用方法。
背景技术
溅射工艺是一种物理气相沉积(Physical Vapor Deposition,PVD)的镀膜方式,通常用于沉积半导体结构中所使用的薄膜。溅射工艺就是利用被加速的带电粒子轰击靶坯,带电粒子与靶坯表面的材料原子发生碰撞,从而使靶坯的材料原子从表面溢出,从而实现在基底表面的薄膜沉积。根据应用环境以及溅射要求的不同,靶坯的形状也不同,例如圆形靶坯、矩形靶坯、环状靶坯或不规则形状的异型靶坯。
目前,为了使靶坯的尺寸和表面粗糙度满足客户的要求,使用车床对靶坯进行机械加工,且采用夹具对所述靶坯进行夹持以固定所述靶坯。
但是,当采用夹具对环状靶坯进行夹持时,容易导致环状靶坯的加工质量下降。
发明内容
本发明解决的问题是提供一种机械加工夹具及其使用方法,提高环状靶坯的加工质量。
为解决上述问题,本发明提供一种机械加工夹具,包括:底座,所述底座中设置有至少一个第一固定孔,所述第一固定孔至少贯穿所述底座的部分厚度;盖板,与所述底座平行设置,所述盖板为圆台状或棱台状,其中面积小的端面面向所述底座,所述盖板中设置有至少一个贯穿所述盖板的第二固定孔;至少一个固定部件,用于连接所述第二固定孔和第一固定孔。
可选的,所述底座的形状为圆柱体、长方体、正方体、圆台或棱台。
可选的,所述底座面向所述盖板的端面内设置有凹槽。
可选的,所述第一固定孔至少贯穿所述底座的2/3厚度。
可选的,所述第一固定孔贯穿所述底座。
可选的,所述第一固定孔和第二固定孔均为螺纹孔,所述固定部件为螺丝,或者包括螺丝和螺帽。
可选的,所述第一固定孔和第二固定孔均为通孔,所述固定部件包括螺丝和螺帽。
可选的,所述第一固定孔与所述第二固定孔一一对应。
可选的,所述第一固定孔的数量至少为三个,且所述第一固定孔以所述底座的横截面中心为圆心,沿圆周方向均匀排布;所述第二固定孔的数量至少为三个,且所述第二固定孔以所述盖板的横截面中心为圆心,沿圆周方向均匀排布。
可选的,所述底座中还设置有至少三个第一定位孔,所述第一定位孔至少贯穿所述底座的部分厚度,且所述第一定位孔以所述底座的横截面中心为圆心,沿圆周方向均匀排布;所述盖板中还设置有至少三个贯穿所述盖板的第二定位孔,所述第二定位孔以所述盖板的横截面中心为圆心,沿圆周方向均匀排布。
可选的,所述第一定位孔与所述第二定位孔一一对应。
可选的,所述第一定位孔与所述第一固定孔沿圆周方向均匀间隔排布;所述第二定位孔与所述第二固定孔沿圆周方向均匀间隔排布。
可选的,所述机械加工夹具还包括:至少三个定位销,用于连接所述第二定位孔和第一定位孔。
可选的,所述第一定位孔至少贯穿所述底座的2/3厚度;或者,所述第一定位孔贯穿所述底座。
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