[发明专利]一种TFT‑LCD基板的制作方法

说明书

技术领域

本发明涉及TFT-LCD技术领域，具体涉及一种TFT-LCD基板的制作方法。

背景技术

TFT-LCD由于其主动发光、广视角、高对比度、色域丰富、响应速度快、构造简单、低功耗及可实现柔性显示等特性，将成为下一代显示器件的主力军。鉴于TFT-LCD的电流驱动特性，其每个像素都有一个对应由薄膜晶体管(TFT)和电容组成的电路来驱动和控制TFT-LCD发光元件，其中驱动薄膜晶体管与TFT-LCD直接连接，将电压信号转换成电流，并结合电容和其余薄膜晶体管构成驱动电路，实现像素的选通、驱动和补偿等功能。由TFT-LCD和驱动电路组成的像素以阵列形式排列，每个像素都由开关信号和光强信号共同控制，决定像素的开关状态和发光强度，进而形成一幅完整的图像。

现有的不透明的驱动电路会限制发光区域的大小，从而影响像素的开口率；若采用顶发光结构的TFT-LCD，虽然可以使像素的开口率不受驱动电路限制，实现约100％的开口率，但是却面临着顶电极、反型层和封装等诸多结构和工艺难点。

发明内容

本发明的目的在于提供本发明提高了产品的合格率，提高了产品质量，降低了生产成本。

为实现上述目的，本发明采用如下技术方案：

一种TFT-LCD基板的制作方法，具体步骤如下：

步骤一、提供玻璃基板，对所述玻璃基板进行抛光制程；

步骤二、将上述经抛光处理的玻璃基板从常温开始以12℃/分钟的速度进行升温、将保持温度设定为在450℃下保持10小时、然后以10℃/分钟的速度进行降温时，热收缩率小于或等于30ppm，平均表面粗糙度Ra小于或等于0.3nm；

步骤三、将上述经热处理后的玻璃基板的两侧表面喷淋蚀刻液，对所述玻璃基板进行蚀刻处理，得到TFT-LCD玻璃基板；

步骤四、制备上述TFT-LCD玻璃基板后，利用洗涤剂溶液、丙酮、去离子水和乙醇超声清洗TFT-LCD基板，再烘干，在TFT-LCD基板上依次制备阳极层、功能层和阴极层；

步骤五、制备驱动电路背板，利用洗涤剂溶液、丙酮、去离子水和乙醇超声清洗绝缘基板，再烘干，在绝缘基板上依次制备薄膜晶体管和电容构成驱动电路，然后采用封装层对该驱动电路和信号输出端连接点进行封装，随后贯通该封装层制成连接信号输出端连接点的通道，并在封装层之上和该通道中制备扩展电极连接和引出信号输出端连接点；

步骤六、集成TFT-LCD结构，将制成的TFT-LCD面板翻转，使阴极层面向驱动电路背板的扩展电极，两者对准并叠层粘合，完成TFT-LCD的集成。

与现有技术相比，本发明的有益效果是：本发明TFT-LCD面板与驱动电路背板的制备过程相互独立，避免传统工艺中后期TFT-LCD不良率导致的驱动电路背板的损失；两个制备过程可以同时进行，从而提高了生产效率，降低了工艺成本，缩短了生产周期，具有很好的产业兼容性。

具体实施方式

一种TFT-LCD基板的制作方法，具体步骤如下：

步骤一、提供玻璃基板，对所述玻璃基板进行抛光制程；

步骤二、将上述经抛光处理的玻璃基板从常温开始以12℃/分钟的速度进行升温、将保持温度设定为在450℃下保持10小时、然后以10℃/分钟的速度进行降温时，热收缩率小于或等于30ppm，平均表面粗糙度Ra小于或等于0.3nm；

步骤三、将上述经热处理后的玻璃基板的两侧表面喷淋蚀刻液，对所述玻璃基板进行蚀刻处理，得到TFT-LCD玻璃基板；

步骤四、制备上述TFT-LCD玻璃基板后，利用洗涤剂溶液、丙酮、去离子水和乙醇超声清洗TFT-LCD基板，再烘干，在TFT-LCD基板上依次制备阳极层、功能层和阴极层；

步骤五、制备驱动电路背板，利用洗涤剂溶液、丙酮、去离子水和乙醇超声清洗绝缘基板，再烘干，在绝缘基板上依次制备薄膜晶体管和电容构成驱动电路，然后采用封装层对该驱动电路和信号输出端连接点进行封装，随后贯通该封装层制成连接信号输出端连接点的通道，并在封装层之上和该通道中制备扩展电极连接和引出信号输出端连接点；

步骤六、集成TFT-LCD结构，将制成的TFT-LCD面板翻转，使阴极层面向驱动电路背板的扩展电极，两者对准并叠层粘合，完成TFT-LCD的集成。

对于本领域技术人员而言，显然本发明不限于所述示范性实施例的细节，而且在不背离本发明的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本发明。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本发明的范围由所附权利要求而不是所述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本发明内。此外，应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。