[发明专利]一种成膜均匀的低折射率光学镀膜材料及制备方法

权利要求书

1.一种成膜均匀的低折射率光学镀膜材料的制备方法，低折射率光学镀膜材料是由氟化镁和添加物氟化钙、氟化钡或氟化锶组成，其特征在于含有以下步骤；

低折射率光学镀膜材料的配方按重量比进行配比、混合，经造粒，

低折射率光学镀膜材料重量配方如下：

氟化镁 80～99.5，

添加的氟化物总量 0.5～20；

在800℃以上进行3～6小时烧结；

在1300℃以上进行真空熔化3～6小时；

进行镀膜：镀膜条件，镀膜机直径1100mm，材料在镀膜时的蒸发速度为10A°/S，基板玻璃温度200℃。

2.一种成膜均匀的低折射率光学镀膜材料，配方如下重量配比：

氟化镁 80～99.5，

添加的氟化物总量 0.5～20；

氟化物由氟化镁和氟化钙、氟化钡、氟化锶两种或两种以上混合物组成；

低折射率光学镀膜材料是氟化镁和氟化钙、氟化钡、氟化锶两种或两种以上烧结混合物，烧结混合物的烧结温度是700℃～1250℃之间；

低折射率光学镀膜材料是以氟化镁和氟化钙、氟化钡、氟化锶的熔融混合物，熔融混合物的熔融温度在1300℃以上；

低折射率光学镀膜材料的烧结温度900～1200℃；

低折射率光学镀膜材料用于镀多层反光膜。