[发明专利]减压干燥装置、减压干燥系统、减压干燥方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种对涂布于基板上的膜进行减压干燥的装置、减压干燥系统，减压干燥方法。

背景技术

在专利文献1中，记载有对涂布于基板上的薄膜进行干燥的减压干燥装置。所述减压干燥装置通过使收容基板的腔室(chamber)的内部减压，而使薄膜中所含的溶剂气化。由此，可以使薄膜干燥。

[现有技术文献]

[专利文献]

[专利文献1]日本专利特开2015-64185号公报

发明内容

[发明所要解决的问题]

然而，在涂布于基板上的膜的干燥完成的时点，在收容基板的基板收容部(腔室)的内部残留有由膜气化而成的成分。因此，在打开基板收容部时，会产生所述气化成分飞散至基板收容部的外部，使周围污染的问题。

本发明是鉴于所述问题而完成，目的在于提供如下技术：通过使收容基板的基板收容部的内部减压而使涂布于基板上的膜干燥，可以一方面抑制来自膜的气化成分飞散至基板收容部的外部，一方面从基板收容部的内部去除所述气化成分。

[解决问题的手段]

本发明的减压干燥装置包括：支撑部，对涂布有膜的基板进行支撑；基板收容部，包括可相互连接分离的第1覆盖(cover)部及第2覆盖部，将支撑于支撑部的基板收容于第1覆盖部与第2覆盖部之间的处理空间；连接分离驱动部，通过使第1覆盖部与第2覆盖部相互接触而封闭处理空间，另一方面，通过使第1覆盖部与第2覆盖部相互分离而打开处理空间；减压机构，通过使经封闭的处理空间减压，而使涂布于基板上的膜干燥；以及排气机构，配置在基板收容部的外侧，从相互分离的第1覆盖部及第2覆盖部各自的周缘部之间排出处理空间内的气化成分。

本发明的减压干燥方法包括如下工序：通过在基板收容部所具有的第1覆盖部与第2覆盖部之间的处理空间内收容着涂布有膜的基板的状态下，使第1覆盖部与第2覆盖部相互接触而封闭处理空间；通过使经封闭的处理空间减压，而使涂布于基板上的膜干燥；使第1覆盖部与第2覆盖部相互分离；以及利用配置在基板收容部的外侧的排气机构，从相互分离的第1覆盖部及第2覆盖部各自的周缘部之间排出处理空间内的气化成分。

在如上所述构成的本发明(减压干燥装置、减压干燥方法)中，基板收容部包括第1覆盖部及第2覆盖部，通过使第1覆盖部与第2覆盖部接触而封闭第1覆盖部与第2覆盖部之间的处理空间。然后，通过使经第1覆盖部及第2覆盖部封闭的处理空间减压，来执行收容于处理空间内的基板的膜的干燥。在所述干燥完成的时点，如上所述在基板收容部的内部，即在处理空间内残留有来自膜的气化成分。因此，如果使第1覆盖部与第2覆盖部分离而打开处理空间，则气化成分有可能从第1覆盖部与第2覆盖部之间飞散至外部。对此，在本发明中，在基板收容部的外侧配置有排气机构。而且，排气机构从相互分离的第1覆盖部及第2覆盖部各自的周缘部之间排出处理空间内的气化成分。由此，将气化成分从处理空间排出至排气机构。其结果为，可以一方面抑制来自膜的气化成分飞散至基板收容部的外部，一方面从基板收容部的内部去除所述气化成分。

并且，也可以如下方式构成减压干燥装置：还包括与排气机构排出气化成分同时，对处理空间供给气体的供气机构。在所述构成中，一方面利用供给至处理空间内的气体置换气化成分，一方面利用排气机构执行气化成分的排出。因此，可以迅速地执行气化成分从处理空间的去除，并且可以利用已置换气化成分的气体来使处理空间保持洁净。

并且，也可以如下方式构成减压干燥装置：还包括配置在处理空间内，从第2覆盖部之侧对由支撑部支撑的基板进行加热的加热板(hot plate)，供气机构将气体供给至加热板与第2覆盖部之间，加热板与第2覆盖部之间的间隙将经供气机构供给的气体引导至第2覆盖部的周缘部。在所述构成中，供给至处理空间的气体是通过加热板与第2覆盖部之间的间隙而引导至第2覆盖部的周缘部。由此，生成从处理空间向第2覆盖部的周缘部的气流，从而可以有效率地从处理空间去除气化成分。

并且，也可以如下方式构成减压干燥装置：排气机构在处理空间的外侧具有沿第2覆盖部的周缘部延伸设置的开口，通过经由相互分离的第1覆盖部及第2覆盖部各自的周缘部之间从开口对处理空间内进行抽吸，而排出气化成分。通过从如上所述设置的开口对处理空间内进行抽吸，可以一方面更确实地抑制从第1覆盖部及第2覆盖部各自的周缘部之间排出的气化成分飞散至外部，一方面从处理空间排出气化成分。