[发明专利]光化学反应装置在审
| 申请号： | 201710466495.0 | 申请日： | 2013-11-08 |
| 公开（公告）号： | CN107287613A | 公开（公告）日： | 2017-10-24 |
| 发明（设计）人： | 小野昭彦;御子柴智;北川良太;田村淳;工藤由纪;黄静君 | 申请（专利权）人： | 株式会社东芝 |
| 主分类号： | C25B9/00 | 分类号： | C25B9/00;C25B11/06;C01B32/40;H01L31/0687;H01L31/076 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所11038 | 代理人： | 吴宗颐 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光化学 反应 装置 | ||
1.光化学反应装置，其特征在于，具备：
层叠体，其具有氧化水而生成氧和质子的氧化催化剂层、还原二氧化碳而生成碳化合物的还原催化剂层、及在所述氧化催化剂层和所述还原催化剂层之间形成的、通过光能进行电荷分离的半导体层，和
电解槽，所述电解槽的内部含有所述层叠体，具有通过所述层叠体分离的所述氧化催化剂层侧配置的氧化反应用电解槽和所述还原反应用电极侧配置的还原反应用电解槽；
所述层叠体具有贯通该层叠体的狭缝，所述狭缝在所述氧化催化剂层侧和所述还原催化剂层侧之间使离子移动。
2.权利要求1所述的光化学反应装置，其特征在于，在所述狭缝的内面上形成由电介质构成的保护层。
3.权利要求2所述的光化学反应装置，其特征在于，所述保护层含有TiO2、ZrO2、Al2O3、SiO2和HfO2中的至少1种。
4.光化学反应装置，其特征在于，具备：
层叠体，其具有氧化水而生成氧和质子的氧化催化剂层、还原二氧化碳而生成碳化合物的还原催化剂层、及在所述氧化催化剂层和所述还原催化剂层之间形成的、通过光能进行电荷分离的半导体层，和
电解槽，所述电解槽的内部含有所述层叠体，具有通过所述层叠体分离的所述氧化催化剂层侧配置的氧化反应用电解槽和所述还原反应用电极侧配置的还原反应用电解槽；
所述层叠体具有将该层叠体分离成第1层叠体和第2层叠体的狭缝，所述狭缝在所述氧化催化剂层侧和所述还原催化剂层侧之间使离子移动。
5.权利要求4所述的光化学反应装置，其特征在于，在所述狭缝的内面上形成由电介质构成的保护层。
6.权利要求5所述的光化学反应装置，其特征在于，所述保护层含有TiO2、ZrO2、Al2O3、SiO2和HfO2中的至少1种。
7.光化学反应装置，其特征在于，具备：
层叠体，其具有氧化水而生成氧和质子的氧化催化剂层、还原二氧化碳而生成碳化合物的还原催化剂层、及在所述氧化催化剂层和所述还原催化剂层之间形成的、通过光能进行电荷分离的半导体层，
离子交换膜，其层叠于所述层叠体上，和
电解槽，所述电解槽的内部含有所述层叠体，具有通过所述层叠体和所述离子交换膜分离的所述氧化催化剂层侧配置的氧化反应用电解槽和所述还原反应用电极侧配置的还原反应用电解槽；
所述层叠体具有贯通该层叠体的开口部，所述开口部在所述氧化催化剂层侧和所述还原催化剂层侧之间使离子移动。
8.权利要求7所述的光化学反应装置，其特征在于，在所述开口部的内面上形成由电介质构成的保护层。
9.权利要求8所述的光化学反应装置，其特征在于，所述保护层含有TiO2、ZrO2、Al2O3、SiO2和HfO2中的至少1种。
10.权利要求7所述的光化学反应装置，其特征在于，所述离子交换膜覆盖所述氧化催化剂层和所述还原催化剂层的至少一方。
11.权利要求7所述的光化学反应装置，其特征在于，所述离子交换膜设置在所述还原催化剂层和所述半导体层之间。
12.权利要求11所述的光化学反应装置，其特征在于，所述离子交换膜支撑所述层叠体。
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