[发明专利]显示基板及其制作方法有效
| 申请号： | 201710466287.0 | 申请日： | 2017-06-19 |
| 公开（公告）号： | CN107121829B | 公开（公告）日： | 2020-04-07 |
| 发明（设计）人： | 尹勇明 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335;G02F1/1333 |
| 代理公司： | 深圳市德力知识产权代理事务所 44265 | 代理人： | 林才桂 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 显示 及其 制作方法 | ||
1.一种显示基板，其特征在于，包括：基板(10)、设于所述基板(10)上的黑色矩阵(20)、覆盖所述黑色矩阵(20)的导电层(40)、以及覆盖所述导电层(40)和基板(10)的透明的公共电极(30)；
所述导电层(40)的材料的电阻率小于所述公共电极(30)的材料的电阻率；
所述黑色矩阵(20)的材料为黑色树脂；
所述导电层(40)与所述黑色矩阵(20)的形状一致，包括分别位于数个横向和纵向排列的遮光条上的数个横向和纵向排列的导电条。
2.如权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述导电层(40)的材料为金属，所述公共电极(30)的材料为ITO。
3.一种显示基板的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：
步骤S201、提供一基板(10)，在所述基板(10)上形成黑色矩阵薄膜(20’)，在所述黑色矩阵薄膜(20’)上形成导电薄膜(40’)；
步骤S202、在所述导电薄膜(40’)上涂布光阻，形成光阻层(50)；
步骤S203、图案化所述光阻层(50)，以所述光阻层(50)为遮挡对所述导电薄膜(40’)进行刻蚀，刻蚀完成后去除光阻层(50)，形成导电层(40)；
步骤S204、以所述导电层(40)为遮挡对所述黑色矩阵薄膜(20’)进行刻蚀，形成黑色矩阵(20)；
步骤S205、在所述导电层(40)和基板(10)上覆盖透明的公共电极(30)；
所述导电层(40)的材料的电阻率小于所述公共电极(30)的材料的电阻率；
所述黑色矩阵(20)的材料为黑色树脂；
所述导电层(40)与所述黑色矩阵(20)的形状一致，包括分别位于数个横向和纵向排列的遮光条上的数个横向和纵向排列的导电条。
4.如权利要求3所述的显示基板的制作方法，其特征在于，所述导电层(40)的材料为金属，所述公共电极(30)的材料为ITO。
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