[发明专利]调节多等离子体处理站的阻抗或功率的组合器和分配器有效
申请号: | 201710459227.6 | 申请日: | 2017-06-16 |
公开(公告)号: | CN107523810B | 公开(公告)日: | 2020-05-15 |
发明(设计)人: | 苏尼尔·卡普尔;乔治·托马斯;亚思万斯·兰吉内尼;爱德华·奥古斯蒂尼克 | 申请(专利权)人: | 朗姆研究公司 |
主分类号: | C23C16/52 | 分类号: | C23C16/52;C23C16/513;H01J37/32 |
代理公司: | 上海胜康律师事务所 31263 | 代理人: | 李献忠;张华 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 调节 等离子体 处理 阻抗 功率 组合 分配器 | ||
1.一种用于调节在多个等离子体处理站之间的阻抗的系统,其包括:
第一射频发生器,其被配置为生成具有第一频率的第一射频信号;
第二射频发生器,其被配置为产生具有第二频率的第二射频信号;
第一匹配网络,其耦合到所述第一射频发生器以接收所述第一射频信号,其中所述第一匹配网络被配置为在接收到所述第一射频信号时输出第一经修改的射频信号;
第二匹配网络,其耦合到所述第二射频发生器以接收所述第二射频信号,其中所述第二匹配网络被配置为在接收到所述第二射频信号时输出第二经修改的射频信号;和
组合器和分配器,其耦合到所述第一匹配网络的输出和所述第二匹配网络的输出,其中所述组合器和分配器被配置为组合所述第一经修改的射频信号和所述第二经修改的射频信号以将组合的射频信号提供给多个等离子体处理站,其中所述组合器和分配器具有耦合到所述多个等离子体处理站的多个输出,其中所述组合器和分配器包括针对所述第一频率和所述第二频率的多个调谐电路,以基于在所述组合器和分配器的输出处测得的参数调谐与所述多个等离子体处理站相关联的阻抗。
2.根据权利要求1所述的系统,其还包括被配置为基于所述参数来调节所述多个调谐电路中的一个或多个调谐电路的变量的系统控制器。
3.根据权利要求1所述的系统,其还包括系统控制器,所述系统控制器被配置为调节所述多个调谐电路中的一个或多个调谐电路的变量,使得所述阻抗中的与所述多个等离子体处理站中的一个相关联的一个阻抗和所述阻抗中的与所述多个等离子体处理站中的另一个相关联的另一个阻抗相差是在预定的范围内。
4.根据权利要求1所述的系统,
其中所述多个调谐电路中的一个包括被调谐以改变提供给所述多个等离子体处理站中的一个等离子体处理站的所述第一频率的功率电平的电容器,而所述多个调谐电路中的另一个是被调谐以改变提供给所述多个等离子体处理站中的所述一个等离子体处理站的所述第二频率的功率电平的电容器,
其中所述第一频率的所述功率电平和所述第二频率的所述功率电平基于所述阻抗中的与所述多个等离子体处理站中的另一个等离子体处理站相关联的一个阻抗而改变。
5.根据权利要求1所述的系统,其中所述组合器和分配器包括:
阻隔电路,其被配置为对所述第二频率进行滤波,使得所述第二频率不影响所述第一射频发生器。
6.根据权利要求1所述的系统,其中所述组合器和分配器包括:
对应于所述多个等离子体处理站的多个假负载;
多个开关,其中所述多个开关中的每一个被配置为耦合到所述假负载中的对应一个或所述组合器和分配器的所述输出中的对应一个,其中当多个开关中的一个耦合到所述多个假负载中的一个时,在所述多个等离子体处理站中的与所述输出中的一个耦合的一个等离子体处理站中禁用等离子体,其中当多个开关中的所述一个耦合到所述组合器和分配器的所述输出中的所述一个时,在所述多个等离子体处理站中的与所述输出中的所述一个耦合的一个等离子体处理站中启用等离子体;
系统控制器,其耦合到所述多个开关,以在所述多个开关耦合到所述组合器和分配器的输出和所述多个开关耦合到所述多个假负载之间修改所述多个开关的多个位置;和
多个直流阻隔电容器,其中所述多个直流阻隔电容器中的每一个耦合到所述多个假负载中的对应的一个,以阻隔直流功率施加到所述多个假负载中的所述对应的一个。
7.根据权利要求1所述的系统,其还包括:
多个参数探针,其耦合到所述组合器和分配器的输出,以测量所述参数的在所述组合器和分配器的所述输出处的多个值;
耦合到所述参数探针的系统控制器,其用于从所述多个参数探针接收所述参数的所述多个值,
其中所述系统控制器耦合到所述多个调谐电路,以基于从所述多个参数探针接收的所述参数的所述多个值来调谐所述多个调谐电路。
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C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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