[发明专利]显示装置

说明书

一种显示装置包括：基底基板，包括沿第一方向延伸的第一光阻挡区域、沿与第一方向交叉的第二方向延伸的第二光阻挡区域以及由第一光阻挡区域和第二光阻挡区域限定的透光区域；栅极线，位于第一光阻挡区域处的基底基板上；数据线，位于第二光阻挡区域处的基底基板上；薄膜晶体管，连接至栅极线和数据线；位于薄膜晶体管上的保护层；黑矩阵，位于第一光阻挡区域和第二光阻挡区域中的至少一个处的保护层上；以及像素电极，通过形成在保护层和黑矩阵中的接触孔连接至薄膜晶体管。

相关申请的交叉引用

本申请要求2016年6月16日在韩国知识产权局(KIPO)提交的韩国专利申请第10-2016-0075121号的优先权，其公开内容通过引用整体合并于此。

技术领域

本发明构思的示例性实施例涉及一种显示装置和制造该显示装置的方法，更具体地，涉及一种可以简化制造工艺的显示装置和制造该显示装置的方法。

背景技术

显示装置可以基于其发光模式而分类为液晶显示(LCD)装置、有机发光二极管(OLED)显示装置、等离子体显示面板(PDP)装置、电泳显示装置等。

LCD装置包括其上形成有电极的显示基板、对基板以及布置在显示基板与对基板之间的液晶层。近年来，采用了阵列上滤色器(COA)结构，其中滤色器被布置在显示基板上以提高透射率。

此外，为了基本上防止在将其上布置有滤色器的显示基板与其上布置有光阻挡构件的对基板耦接的过程中的未对准，采用了阵列上黑矩阵(BOA)结构，其中滤色器和光阻挡构件被布置在显示基板上。

将理解的是，此背景技术部分意在提供用于理解技术的有用背景，并且如本文所公开的那样，技术背景部分可以包括不构成在本文所公开的主题的对应有效申请日之前相关领域的技术人员已经知晓或理解的部分的想法、构思或认识。

发明内容

本发明构思的示例性实施例可以涉及可以简化制造工艺的一种显示装置及其制造方法。

根据示例性实施例，一种显示装置包括：基底基板，包括沿第一方向延伸的第一光阻挡区域、沿与第一方向交叉的第二方向延伸的第二光阻挡区域以及由第一光阻挡区域和第二光阻挡区域限定的透光区域；栅极线，被布置在基底基板上、第一光阻挡区域处；数据线，被布置在基底基板上、第二光阻挡区域处；薄膜晶体管，连接至栅极线和数据线；保护层，被布置在薄膜晶体管上；黑矩阵，被布置在保护层上、第一光阻挡区域和第二光阻挡区域中的至少一个处；以及像素电极，被布置在黑矩阵上并且通过形成在保护层和黑矩阵中的接触孔连接至薄膜晶体管。

该显示装置可以进一步包括被布置在基底基板上、薄膜晶体管和像素电极的接触区域下方的光阻挡图案。

光阻挡图案可以与黑矩阵的至少一部分重叠。

光阻挡图案在平面图中可以与接触孔完全地重叠。

光阻挡图案可以与布置有栅极线的层布置在基本同一层中。

光阻挡图案可以具有岛形状。

光阻挡图案可以具有圆形或多边形形状。

保护层可以包括位于透光区域处的第一保护层以及位于第一光阻挡区域和第二光阻挡区域处的第二保护层。

第一保护层可以具有比第二保护层的高度小的高度。第一保护层和第二保护层在分界处可以具有台阶差。台阶差可以从约至约

显示装置可以进一步包括从黑矩阵突出的柱状间隔件。