[发明专利]阀门关闭装置及阀门关闭方法

说明书

本发明提供一种阀门关闭装置及阀门关闭方法。该阀门关闭装置包括外壳、贯穿外壳底部的第一进气口、设于外壳内周面上的抵挡部、贯穿外壳侧壁且位于抵挡部上方的第二进气口、位于抵挡部与外壳底部之间的密封盘、露置于外壳顶部且一端伸入外壳内的传动装置；通过向第一进气口通入流量为第一流量的气体，推动密封盘向上移动至抵挡于所述抵挡部的同时推动传动装置伸入外壳内的一端向上移动至第二进气口上方的第一位置，带动阀门快速关闭，之后向第二进气口通入流量为第二流量的气体，推动传动装置伸入外壳内的一端从第一位置继续向上移动，带动阀门缓慢关闭直至完全闭合，保证阀门关闭速率的同时避免阀门闭合时因碰撞产生颗粒，提升产品品质。

技术领域

本发明涉及显示装置制程领域，尤其涉及一种阀门关闭装置及阀门关闭方法。

背景技术

薄膜晶体管(Thin Film Transistor，TFT)是目前液晶显示装置(Liquid CrystalDisplay，LCD)和有机电致发光显示装置(Organic Light-Emitting Diode，AMOLED)中的主要驱动元件，直接关系到高性能平板显示装置的发展方向。因此，不论是LCD的显示面板，还是OLED的显示面板，通常都具有一TFT基板。以LCD的显示面板为例，其主要是由一TFT基板、一彩色滤光片(Color Filter，CF)基板、以及配置于TFT基板和CF基板间的液晶层(LiquidCrystal Layer)所构成，其工作原理是通过在TFT基板与CF基板上施加驱动电压来控制液晶层中液晶分子的旋转，将背光模组的光线折射出来产生画面。

目前，薄膜制程技术广泛应用于LCD和OLED上，由于利用薄膜制程技术所生产的产品具有很高附加价值，使薄膜制程技术与薄膜材料被广泛应用于研究和实际，同时带来镀膜技术的迅速发展。通常，镀膜方法主要包括离子镀膜法、射频磁控溅镀、真空蒸发法、化学气相沉积法等。随着人们对视觉效果越来越高的要求，TFT基板上的线路愈发密集，因而需要对镀膜过程中产生的颗粒(Particle)进行更严格的控制，防止颗粒对TFT基板产生不良影响。

现有改善颗粒的方式主要为通过阀门关闭装置控制镀膜设备阀门的开关动作，在阀门闭合的瞬间进行降速，防止阀门闭合时碰撞产生颗粒进入到镀膜设备中。如图1所示为现有的阀门关闭装置，包括：中空的外壳100、贯穿所述外壳100底部的进气口200、露置于外壳100顶部且一端伸入外壳100内的传动装置300，阀门需要关闭时，向所述进气口200通入气体带动传动装置300向上移动，从而关闭阀门，在阀门刚开始关闭时使进气口200的进气速率大，而在阀门即将完全闭合时降低进气口200的进气速率，从而使镀膜设备阀门降速闭合，另一种现有的阀门关闭装置，在图1所示的阀门关闭装置的基础上，于外壳100底部设置多个连接不同管径的气管的进气口200，在阀门刚开始关闭时利用大管径的气管进气，而在阀门即将完全闭合时利用小管径的气管进气，从而使镀膜设备阀门降速闭合，然而这两种阀门关闭装置均是对进气口200进行节流，为了保证阀门闭合时不会因碰撞产生颗粒，需要较长的缓冲距离和时间才能实现阀门降速闭合，阀门的关闭速率低，会对生产时间(tacttime)造成一定的负面影响，降低生产速率，提高生产成本。

发明内容

本发明的目的在于提供一种阀门关闭装置，能够在保证阀门关闭速率的同时避免阀门闭合时因碰撞产生颗粒，提升产品品质。

本发明的目的还在于提供一种阀门关闭方法，能够在保证阀门关闭速率的同时避免阀门闭合时因碰撞产生颗粒，提升产品品质。

为实现上述目的，本发明提供一种阀门关闭装置，包括：中空的外壳、贯穿所述外壳底部的第一进气口、设于所述外壳内周面上的抵挡部、贯穿所述外壳侧壁且位于抵挡部上方的第二进气口、位于抵挡部与外壳底部之间的密封盘、露置于外壳顶部且一端伸入外壳内的传动装置；所述传动装置伸入外壳内的一端与外壳内周面配合且位于外壳顶部与抵挡部之间；所述密封盘与外壳内周面配合；