[发明专利]金属掩膜板的设计方法、金属掩膜板的制备方法

说明书

本发明属于显示技术领域，具体涉及一种金属掩膜板的设计方法、金属掩膜板的制备方法。该金属掩膜板的设计方法包括步骤：根据所述金属掩膜板在使用时的拉伸力、以及所述金属掩膜板在互相垂直的两个方向上的形变属性，分别计算所述金属掩膜板在互相垂直的两个方向上的形变量；根据所述金属掩膜板在互相垂直的两个方向上的形变量，以与形变量相同、但形变趋势相反的方式补偿所述金属掩膜板在互相垂直的两个方向上的形变。该方法通过计算金属掩膜板的张网收缩率，从而获得金属掩膜板制作时需要的补偿量，进而在金属掩膜板设计时进行补偿，在金属掩膜板的设计初期就考虑金属掩膜板的形变量，设计包含了补偿量的金属掩膜板，降低金属掩膜板的工艺成本。

技术领域

本发明属于显示技术领域，具体涉及一种金属掩膜板的设计方法、金属掩膜板的制备方法。

背景技术

随着技术发展，OLED(Organic Light Emitting Diode，简称有机发光二极管)显示装置日益深入人们的生活。在OLED显示装置的制备工艺中，广泛应用精细金属掩膜板(Fine MetalMask，简称FMM)的小分子蒸镀技术，应用多层金属掩膜板，通过金属掩膜板中的开口将有机发光材料蒸镀到薄膜晶体管背板的特定位置，从而实现彩色显示。

金属掩膜板的精度为微米级，与薄膜晶体管背板的匹配对位的精度要求非常高。通常情况下，薄膜晶体管的开口相对背板特定位置的偏移超过5微米，上一层金属掩膜板和下一层金属掩膜板蒸镀的有机发光材料在发光时就会发生颜色的互相干扰，导致显示器件在显示时发生“混色”不良，例如，在显示白色画面时，画面发青或发粉。导致显示器件“混色”不良的原因包括：金属掩膜板设计、制造商制作精度、使用时的对位精度、金属掩膜板多次使用的“疲劳”和“松弛”以及和薄膜晶体管背板贴合情况等多种因素。上述各因素除设计因素之外，均可通过调整改进工艺来提高精度，因此对金属掩膜板的设计提出了较高的要求。

设计并制造好的金属掩膜板经拉伸焊接在框架上，厚约数十微米、长约百微米、宽约几十到几百微米的金属掩膜板在两端施加的拉力下会产生较大形变，如图1所示，比较设计好的金属掩膜板1与拉伸焊接后的金属掩膜板2可见，拉伸焊接后的金属掩膜板2在拉伸方向发生伸长形变、在垂直于拉伸方向发生缩短形变，导致金属掩膜板上的开口因此发生移动和形变，从而与薄膜晶体管背板失配。有鉴于此，在设计金属掩膜板时，通过在拉伸方向和收缩方向分别设计补偿量，让其在拉伸或收缩发生形变后达到预期位置。目前，补偿量来源于成型样品金属掩膜板中，拉伸/收缩前对位标识与拉伸/收缩后对位标识的测量和计算，这种方式虽然能提供金属掩膜板的补偿量，但是效率低下，而且增加了金属掩膜板的工艺成本。

如何在金属掩膜板的设计初期就考虑金属掩膜板的形变量，一次性设计出包含了补偿量的金属掩膜板成为目前亟待解决的技术问题。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是针对现有技术中上述不足，提供一种金属掩膜板的设计方法、金属掩膜板的制备方法，通过计算预估出金属掩膜板拉伸受力后的形变量，在设计或制作金属掩膜板时对该形变量进行负补偿，准确的抵消因拉伸后产生的形变，确保金属掩膜板的精度。

解决本发明技术问题所采用的技术方案是该金属掩膜板的设计方法，包括步骤：

根据所述金属掩膜板在使用时的拉伸力、以及所述金属掩膜板在互相垂直的两个方向上的形变属性，分别计算所述金属掩膜板在互相垂直的两个方向上的形变量；

根据所述金属掩膜板在互相垂直的两个方向上的形变量，以与形变量相同、但形变趋势相反的方式补偿所述金属掩膜板在互相垂直的两个方向上的形变。

优选的是，获取所述金属掩膜板在互相垂直的两个方向上的形变属性包括：

确定所述金属掩膜板的设计尺寸；

获取用于制备所述金属掩膜板的材料属性；