[发明专利]一种机械自动化领域的药材加工快速粗滤设备在审

专利信息
申请号: 201710450646.3 申请日: 2017-06-15
公开(公告)号: CN107127144A 公开(公告)日: 2017-09-05
发明(设计)人: 蒙泽喜 申请(专利权)人: 广州市中潭空气净化科技有限公司
主分类号: B07B1/28 分类号: B07B1/28;B07B1/46
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 510000 广东省广州市荔湾区花地大道中*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 机械 自动化 领域 药材 加工 快速 设备
【说明书】:

技术领域

发明涉及药材加工技术领域,尤其是涉及一种机械自动化领域的药材加工快速粗滤设备。

背景技术

在药材的加工过程中,需要将药材中的杂质灰尘等清除掉,以便提高药材的清洁度及纯度,然而,现有对药材除杂的装置无法实现对药材快速的除杂作业,并且杂质容易因为堵塞过滤网的滤孔导致除杂作业的中断,进而使得除杂效率低,甚至会缩短过滤网的使用寿命。

因此,有必要提供一种新的技术方案以克服上述缺陷。

发明内容

本发明的目的在于提供一种可有效解决上述技术问题的机械自动化领域的药材加工快速粗滤设备。

为达到本发明之目的,采用如下技术方案:

一种机械自动化领域的药材加工快速粗滤设备,包括底板、位于所述底板上方的电机装置、位于所述电机装置上方的框体装置、收容于所述框体装置内的筛选装置、设置于所述框体装置上的拉动装置、位于所述电机装置上方的收集装置,所述底板上设有位于其下方的若干万向轮、位于其上方的第一竖杆、设置于所述第一竖杆上端的第一滚轮,所述电机装置包括电机、设置于所述电机上的输出轴、设置于所述输出轴上的第一拉线,所述框体装置包括第一支撑杆、位于所述第一支撑杆上方的第一固定杆、位于所述第一固定杆左侧的框体、收容于所述框体内左右两侧的第一集中块、位于所述第一集中块下方的第二固定杆、设置于所述第二固定杆端部的第二滚轮、位于所述第二固定杆下方的第二集中块,所述筛选装置包括移动框、设置于所述移动框上的过滤网、位于所述移动框下方左右两侧的挡板、位于所述移动框左右两侧的第一弹簧,所述拉动装置包括电缸、位于所述电缸左侧的推动杆、位于所述推动杆左侧的推板、位于所述推动杆上下两侧的第二弹簧、位于所述推板左侧的第二拉线,所述收集装置包括第二竖杆、设置于所述第二竖杆上的升降板、位于所述升降板下方的第三弹簧、连接环、位于所述升降板上方的收集箱。

所述第一竖杆的下端与所述底板固定连接,所述第一竖杆的上端设有第一凹槽,所述第一滚轮收容于所述第一凹槽内且与所述第一竖杆枢轴连接。

所述电机与所述底板固定连接,所述输出轴呈圆柱体,所述输出轴的一端与所述电机连接,所述第一拉线的下端与所述输出轴固定连接,所述第一拉线穿过所述第一凹槽且顶靠在所述第一滚轮上。

所述第一支撑杆的下端与所述底板固定连接,所述第一支撑杆的上端与所述第一固定杆固定连接,所述第一固定杆的左端与所述框体的右表面固定连接,所述第一集中块设有两个且分别位于所述框体内的左右两侧,所述第一集中块的纵截面呈直角三角形,所述第一集中块的侧面与所述框体的内表面固定连接,所述第二固定杆的一端与所述框体的内表面固定连接,所述第二固定杆的另一端设有第二凹槽,所述第二滚轮呈圆柱体,所述第二滚轮收容于所述第二凹槽内且与所述第二固定杆枢轴连接,所述第二集中块的纵截面呈直角三角形,所述第二集中块的侧面与所述框体的内表面固定连接。

所述移动框呈半圆柱体状,所述移动框位于所述第二滚轮之间,所述第二滚轮顶靠在所述移动框上,所述移动框上设有第一通孔,所述过滤网呈弯曲状,所述过滤网收容于所述第一通孔内且与所述移动框固定连接,所述挡板的上端与所述移动框固定连接,所述第一弹簧设有若干个,所述第一弹簧的一端与所述框体的内表面固定连接,所述第一弹簧的另一端与所述移动框固定连接。

所述电缸与所述第一固定杆固定连接,所述推动杆的右端与所述电缸连接,所述推动杆贯穿所述框体的内外表面且与其滑动接触,所述推动杆的左端与所述推板固定连接,所述推板收容于所述框体内,所述第二弹簧设有两个,所述第二弹簧的一端与所述框体的内表面固定连接,所述第二弹簧的另一端与所述推板固定连接,所述第二拉线的一端与所述推板固定连接,所述第二拉线的另一端与所述挡板固定连接。

所述第二竖杆的下端与所述底板固定连接,所述第二竖杆贯穿所述升降板的上下表面且与其滑动接触,所述升降板可以顶靠在所述框体的下表面上,所述第三弹簧的下端与所述底板固定连接,所述第三弹簧的上端与所述升降板固定连接,所述连接环的两端与所述升降板固定连接,所述第一拉线的上端与所述连接环固定连接,所述收集箱呈空心的长方体,所述收集箱的下表面顶靠在所述升降板上,所述收集箱收容于所述框体内且与所述框体的内表面滑动接触,所述收集箱顶靠在所述第二集中块的下表面上。

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