[发明专利]一种等离子体喷涂工艺

权利要求书

1.一种等离子体喷涂工艺，其特征在于，包括如下步骤：

S1、在喷涂前，将喷砂好的工件置于清洗槽内进行清洗，清洗完毕后采用气枪对工件进行干燥；

S2、将工件的所有非喷涂面贴上喷涂胶带，胶带边缘距离相邻的工件面2mm且切痕整齐，用刮板朝同一个方向均力进行刮移，使胶带贴附良好无翘曲；

S3、将工件固定好，使第一个待喷涂面朝向喷涂枪头，调整喷涂枪头角度，使焰流轴线与火焰中心的连线与工件表面的垂线夹角为2°~5°，将喷涂功率设置为33kW，主气、辅气及载气分别设置为0.448Mpa、0.344Mpa及0.137MPa，喷涂用粉末为Y₂O₃，完成第一个待喷涂面的喷涂；

S4、重复步骤S3的操作，完成其他待喷涂面的喷涂；

S5、喷涂完毕后，拆下胶带，用200目的陶瓷刮板对非喷涂面和喷涂面的过渡区进行刮磨，再用气枪吹干净，送入超声波清洗，再用烘箱烘干；

S6、取出喷涂完毕的工件并放置好，打开喷涂设备，将喷涂功率设置为33kW，主气、辅气及载气分别设置为0.448Mpa、0.344Mpa及0.137MPa，喷涂速度为800mm/s；喷涂设备点火正常运行，关闭送粉器，喷涂枪头在不送粉的状态下在工件的各个表面按序扫描1~2遍。

2.根据权利要求1所述的一种等离子体喷涂工艺，其特征在于，所述步骤S1中，清洗的具体方法为：在常温下，将工件置于碱液中浸泡，然后取出用纯水冲洗。

3.根据权利要求1所述的一种等离子体喷涂工艺，其特征在于，所述工件为长方形、三角形或正方形的薄板，厚度为2~20mm。

4.根据权利要求1所述的一种等离子体喷涂工艺，其特征在于，所述步骤S5中，超声波清洗条件为：纯水水温温度50℃，超声时间800秒，频率40kHz；烘箱烘干条件为：温度100℃，恒温时间8小时。

5.根据权利要求1所述的一种等离子体喷涂工艺，其特征在于，所述步骤S3和S6中，主气、辅气及载气分别为Ar、He及Ar。

6.根据权利要求1所述的一种等离子体喷涂工艺，其特征在于，所述步骤S3和S6中，喷涂枪头中心出火焰处到工件表面的垂直距离均为120mm。

7.根据权利要求1所述的一种等离子体喷涂工艺，其特征在于，所述步骤S3和S6中，喷涂枪头的扫描路径均为蛇形路径，喷涂扫描间距均为2mm，所述蛇形路径的具体走向为：横扫描—纵扫描2mm—反向横扫描—纵扫描2mm—横扫描，按照上述规律重复扫描。

8.根据权利要求1~7任一项所述的一种等离子体喷涂工艺，其特征在于，所述步骤S3和S6中，喷涂小边缘距离为2mm，大边缘距离为80mm。

9.根据权利要求8所述的一种等离子体喷涂工艺，其特征在于，所述工件由陶瓷或金属制成。