[发明专利]一种用于AMOLED高热稳定性无碱硼铝硅酸盐玻璃

说明书

技术领域

本发明涉及AMOLED技术领域，具体涉及一种用于AMOLED高热稳定性无碱硼铝硅酸盐玻璃。

背景技术

有源矩阵液晶显示器的制造非常复杂，基板玻璃的性质极为重要。首要的是，用于生产AMOLED器件的玻璃基板必须严格控制其物理尺寸。玻璃基板必须具有下列的特性：含有碱金属氧化物少于l000ppm；具耐化学性；热膨胀系数须与薄膜晶体管的硅相近；提高玻璃应变点，以减少热收缩量。

AMOLED用的玻璃基板根据液晶显示器的技术标准，必须具备以下的基本物理特性：1、玻璃基板的热膨胀系数必须够低，不高于40×10-7/℃；2、玻璃基板的应变点温度应高于640℃；3、密度低于2.6g/cm3，且越轻越好。

为了得到无泡的无碱玻璃，利用澄清气体，从玻璃熔液中驱逐玻璃反应时产生的气体，另外在均质化熔化时，需要再次利用产生的澄清气体，增大泡层径，使其上浮，由此取出参与的微小泡。

可是，用作液晶显示器用玻璃基板的无碱玻璃，玻璃熔液的粘度高，与含有碱成分的玻璃相比，需用更高温度熔化。在此种的无碱玻璃基板中，通常在1300-1500度引起玻璃化反应，在1500度以上的高温下脱泡、均质化。因此，在澄清剂中，广泛使用能够在1300-1700度的温度范围产生澄清气体的As2O3。但是，As2O3的毒性非常强，在玻璃的制造工序或废玻璃的处理时，有可能污染环境和带来健康的问题，其使用正在受到限制。

发明内容

本发明旨在提供了一种用于AMOLED高热稳定性无碱硼铝硅酸盐玻璃。

本发明提供如下技术方案：

一种用于AMOLED高热稳定性无碱硼铝硅酸盐玻璃，其是由如下重量百分比的组分组成：二氧化硅45.2-48.6、氧化铝10.5-13.5、氧化硼2.4-3.5、氧化镁2.8-5.4、氧化钙3.2-4.9、二氧化锆1.6-3.1、氧化钡1.5-4.7、氧化锡2.2-3.3、氧化铈1.5-2.4、氧化钕2.0-2.5、氧化镧1.2-1.5、碳酸锶0.01-0.08。

所述各种原料成分纯度高于99％。

所述所述玻璃的比模量大于30GPa cm3/gm。

所述玻璃还包含化学澄清剂，所述澄清剂是由0.5-0.9％的氧化砷和0.8-1.2％的氧化锑组成。

与现有技术相比，本发明的有益效果是：本发明的基板玻璃组成材料通过熔融形成坚韧的玻璃，且可借二氧化硅在玻璃中形成网络结构，并借三氧化二铝使玻璃生成坚韧的表面，进而增加玻璃耐热性与抗失透性，减少玻璃膨胀率，另外借氧化镁降低玻璃的黏度及膨胀系数，并借助氧化钡增加玻璃的耐化学性与抗失透性，解决现有AMOLED用基板玻璃强度及硬度不足，同时借助氧化锡来取代PbO、As2O3或Sb2O3等成分，进而解决现有AMOLED用基板玻璃不符合环保标准，导致回收困难而无法再利用的问题。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

实施例1一种用于AMOLED高热稳定性无碱硼铝硅酸盐玻璃，其是由如下重量百分比的组分组成：二氧化硅45.2、氧化铝10.5、氧化硼2.4、氧化镁2.8、氧化钙3.2、二氧化锆1.6、氧化钡1.5、氧化锡2.2、氧化铈1.5、氧化钕2.0、氧化镧1.2、碳酸锶0.01。

所述各种原料成分纯度高于99％。

所述所述玻璃的比模量大于30GPa cm3/gm。

所述玻璃还包含化学澄清剂，所述澄清剂是由0.5-0.9％的氧化砷和0.8-1.2％的氧化锑组成。

实施例2一种用于AMOLED高热稳定性无碱硼铝硅酸盐玻璃，其是由如下重量百分比的组分组成：二氧化硅48.6、氧化铝13.5、氧化硼3.5、氧化镁5.4、氧化钙4.9、二氧化锆3.1、氧化钡4.7、氧化锡3.3、氧化铈2.4、氧化钕2.5、氧化镧1.5、碳酸锶0.08。

所述各种原料成分纯度高于99％。

所述所述玻璃的比模量大于30GPa cm3/gm。

所述玻璃还包含化学澄清剂，所述澄清剂是由0.5-0.9％的氧化砷和0.8-1.2％的氧化锑组成。