[发明专利]液处理装置、液处理方法以及存储介质

权利要求书

1.一种液处理装置，其特征在于，具备：

多个基板载置区域，所述多个基板载置区域在左右方向上排列；

喷嘴，其用于从各所述基板载置区域上的各处理位置分别向基板供给处理液来对该基板进行处理；

喷嘴载置区域，其设置在所述基板载置区域的列的后方，用于载置所述喷嘴；

臂，其将所述喷嘴以装卸自如的方式保持在该臂的一端侧；

驱动部，其用于使所述臂绕位于所述基板载置区域的后方侧的转动轴在水平方向上转动，并且使所述转动轴在左右方向上移动；以及

控制部，其输出控制信号，使得执行以下步骤：从所述喷嘴载置区域将所述喷嘴从与各处理位置对应地设定的待机位置中的与输送目的地的处理位置对应的待机位置的后方输送到该待机位置；接着使该喷嘴在该待机位置进行待机；以及之后将该喷嘴输送到所述处理位置，

其中，所述待机位置位于基板载置区域的外侧且在前后方向上观察时位于处理位置与喷嘴载置区域之间。

2.根据权利要求1所述的液处理装置，其特征在于，

用于向所述喷嘴供给所述处理液的配管连接于该喷嘴，

该配管以从位于所述喷嘴载置区域的所述喷嘴起沿左右方向延伸的方式进行设置，使得与各所述喷嘴位于各处理位置上时相比，在各所述喷嘴位于所述喷嘴载置区域时配管的变形得到抑制。

3.根据权利要求1或2所述的液处理装置，其特征在于，

所述喷嘴设置有多个，通过所述臂选择性地保持所述喷嘴。

4.根据权利要求1或2所述的液处理装置，其特征在于，

所述控制部输出控制信号，使得在将被所述臂保持的所述喷嘴输送到所述待机位置之前，使所述喷嘴在设定在比该待机位置靠后方侧的位置的后方侧待机位置进行待机。

5.根据权利要求4所述的液处理装置，其特征在于，

在向一个所述处理位置输送所述喷嘴时，喷嘴位于与该处理位置对应的所述后方侧待机位置的时间比喷嘴位于与该处理位置对应的所述待机位置的时间长。

6.根据权利要求1或2所述的液处理装置，其特征在于，

在向所述各处理位置输送所述喷嘴时，所述臂向相同方向转动来进行该喷嘴的输送。

7.一种液处理方法，用于液处理装置中，所述液处理装置具备：

多个基板载置区域，所述多个基板载置区域在左右方向上排列；

喷嘴，其用于从各所述基板载置区域上的各处理位置分别向基板供给处理液来对该基板进行处理；

喷嘴载置区域，其设置在所述基板载置区域的列的后方，用于载置所述喷嘴；

臂，其将所述喷嘴以装卸自如的方式保持在该臂的一端侧；以及

驱动部，其使所述臂绕位于所述基板载置区域的后方侧的转动轴在水平方向上转动，并且使所述转动轴在左右方向上移动，

所述液处理方法的特征在于，具备以下步骤：

从所述喷嘴载置区域将所述喷嘴从与各处理位置对应地设定的待机位置中的与输送目的地的处理位置对应的待机位置的后方输送到该待机位置的步骤；

接着使该喷嘴在该待机位置进行待机的步骤；以及

之后将该喷嘴输送到所述处理位置的步骤，

其中，所述待机位置位于基板载置区域的外侧且在前后方向上观察时位于处理位置与喷嘴载置区域之间。

8.一种存储介质，存储有对基板进行液处理的液处理装置所使用的计算机程序，所述存储介质的特征在于，

所述计算机程序用于实施根据权利要求7所述的液处理方法。