[发明专利]光学膜的制造方法以及光学膜有效

申请号：	201710440041.6	申请日：	2016-02-10
公开（公告）号：	CN107219569B	公开（公告）日：	2020-04-03
发明（设计）人：	林秀和;田口登喜生;山田信明;芝井康博;新纳厚志;中松健一郎	申请（专利权）人：	夏普株式会社
主分类号：	G02B1/118	分类号：	G02B1/118;G02B1/18
代理公司：	北京市隆安律师事务所 11323	代理人：	权鲜枝;侯剑英
地址：	日本***	国省代码：	暂无信息
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摘要：
搜索关键词：	光学制造方法以及
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【权利要求书】：

1.一种光学膜，包括在表面具有凹凸结构的固化树脂层，上述光学膜的特征在于，

上述凹凸结构以可见光的波长以下的间距设有多个凸部，

上述固化树脂层是树脂层的固化物，并且上述固化树脂层的构成原子包括碳原子、氮原子、氧原子和氟原子，

上述树脂层包括含氟单体以及与上述含氟单体相溶的相溶性单体，

上述相溶性单体含有含酰胺基单体，

将在X射线光束直径为100μm、分析面积为1000μm×500μm以及光电子的取出角度为45°的条件下通过X射线光电子分光法测定的上述凹凸结构的表面的上述氟原子的数量相对于上述碳原子的数量、上述氮原子的数量、上述氧原子的数量以及上述氟原子的数量的总数量的比率定义为MF_S，将在深度方向离上述凹凸结构的表面通过聚羟基苯乙烯换算为D的位置处的上述氟原子的数量相对于上述碳原子的数量、上述氮原子的数量、上述氧原子的数量以及上述氟原子的数量的总数量的比率定义为MF_D，其中，上述MF_S、MF_D的单位为原子％，上述D的单位为nm，则MF_S为33原子％以上，且满足MF_D/MF_S＝0.3时的D为240nm以上。

2.根据权利要求1所述的光学膜，其特征在于，

MF_S为43原子％以上。

3.根据权利要求2所述的光学膜，其特征在于，

MF_S为48原子％以上。

4.根据权利要求1至3中的任意一项所述的光学膜，其特征在于，

对于在X射线光束直径为100μm、分析面积为1000μm×500μm以及光电子的取出角度为45°的条件下通过X射线光电子分光法测定的、上述凹凸结构的表面的O1s峰，在用来自C-O键的峰、来自C＝O键的峰以及来自OCF₂键的峰进行曲线拟合得到的谱中，来自上述OCF₂键的峰面积相对于来自上述C-O键的峰面积和来自上述C＝O键的峰面积之和的比率为0.3以上。

5.根据权利要求4所述的光学膜，其特征在于，

来自上述OCF₂键的峰面积相对于来自上述C-O键的峰面积和来自上述C＝O键的峰面积之和的比率为0.6以上。

6.根据权利要求5所述的光学膜，其特征在于，

来自上述OCF₂键的峰面积相对于来自上述C-O键的峰面积和来自上述C＝O键的峰面积之和的比率为1以上。

7.根据权利要求1至3、5、6中的任意一项所述的光学膜，其特征在于，

满足MF_D/MF_S＝0.3时的D为275nm以上。

8.根据权利要求1至3、5、6中的任意一项所述的光学膜，其特征在于，

满足MF_D/MF_S＝0.3时的D为350nm以下。

9.根据权利要求1至3、5、6中的任意一项所述的光学膜，其特征在于，

满足MF_D/MF_S＝0时的D为1220nm以上的范围。

10.根据权利要求9所述的光学膜，其特征在于，

满足MF_D/MF_S＝0时的D为1380nm以上的范围。