[发明专利]一种冷冲压模具的表面处理方法

权利要求书

1.一种冷冲压模具的表面处理方法，其特征在于，包括如下步骤：

a. 将冷冲压模具经过淬火、三次回火热处理，使经过热处理的冷冲压模具的硬度调整到60-64HRC的范围内；

b. 将经过所述步骤a热处理的冷冲压模具表面进行清洗，用酒精去除冷冲压模具表面的灰尘、油污和其他污染物，得到具有洁净表面的冷冲压模具；

c. 将经过所述步骤b洁净处理的冷冲压模具在PVD炉中进行PVD处理，得到具有均匀致密涂层的冷冲压模具；所述PVD处理的工艺参数如下：300V-700V偏压，通入氩气清理基体表面，同时各靶材通微量电流以防止靶材中毒；偏压降为40-80V，增加Cr靶电流至设定值沉积Cr底层；通过控制OEM设定值为55-90，加入N₂，沉积CrN过渡层；偏压上调5V-10V，逐渐增加Al、Ti靶电流至设定值，沉积CrTiAlN涂层，沉积时间为60min-120min；沉积条件：真空度<5×10^-3Pa；沉积气压：4.0×10^-5Torr-1.0×10^-5Torr；基体温度﹤300℃；基体旋转速度：2-6rpm；

所述步骤c中，将经过所述步骤b洁净处理的冷冲压模具在PVD炉中进行PVD处理，具体步骤为：

①在控制柜计算机系统输入PVD设定的涂层制备工艺；

②利用夹具将表面洁净的冲压模具固定在PVD炉中与腔体支架同一高度位置，使启动后表面洁净的冲压模具转速保持在2-6rpm；

③将PVD炉腔抽真空，并加热，使真空度<5×10^-3Pa，保持温度低于200℃；

④当真空度达到要求，则开始增加偏压，通入氩气，对表面洁净的冲压模具表面进行清理；

⑤增加Cr靶电流，正式进入涂层沉积过程的第一步—沉积底层Cr；

⑥通入氮气，涂层沉积过程第二步—过渡层CrN的制备；

⑦进一步增加Cr靶电流以及增加Ti、Al靶电流，进入涂层沉积过程第三步—CrTiAlN涂层的制备；

⑧炉腔冷却阶段，等炉腔冷却后进入待机状态，开放气闸，取出完成PVD处理的冲压模具。

2.根据权利要求1所述的一种冷冲压模具的表面处理方法，其特征在于：所述PVD处理可以选择对冷冲压模具的整体表面进行处理，也可选择对冷冲压模具的局部表面进行处理。

3.根据权利要求1所述的一种冷冲压模具的表面处理方法，其特征在于：所述步骤a中，冷冲压模具由SDC99钢、Cr12MoV钢、SKD11钢、LD钢、DC53钢中的任意一种形成。