[发明专利]一种基于纹理角度预测模式的HEVC帧内编码帧差错掩盖方法有效
| 申请号: | 201710422719.8 | 申请日: | 2017-06-07 |
| 公开(公告)号: | CN107277549B | 公开(公告)日: | 2020-05-12 |
| 发明(设计)人: | 胡栋;范光宾 | 申请(专利权)人: | 南京邮电大学 |
| 主分类号: | H04N19/593 | 分类号: | H04N19/593;H04N19/61;H04N19/103;H04N19/176;H04N19/154 |
| 代理公司: | 南京知识律师事务所 32207 | 代理人: | 李吉宽 |
| 地址: | 210003 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 基于 纹理 角度 预测 模式 hevc 编码 差错 掩盖 方法 | ||
1.一种基于纹理角度预测模式的HEVC帧内编码帧差错掩盖方法,其特征在于,包括以下步骤:
步骤A:完成对丢失LCU的检测及定位;
步骤B:将丢失LCU均分为左上、右上、右下、左下四部分,每部分对应32x32的大小;
步骤C:先处理左上部分,在HEVC标准参考软件HM中通过getDepth()函数得到该部分上边及左边相邻16个正确接收的4x4小块的深度信息,并以最大深度确定该部分的划分;
步骤D:对于划分的每一个块,参考相邻两个块的纹理角度模式推测出当前划分块可能的纹理角度模式,对于左上部分,根据左边和上边块进行推测,从左上角的块开始先行后列依次完成该部分所有划分块的纹理角度模式推测;
步骤E:完成左上部分所有划分块的纹理角度模式判别之后,根据该模式对划分块按照帧内预测的方式进行差错掩盖,参考像素来自划分块左边及上边像素;掩盖顺序具体是:从左上角的划分块开始先行后列依次完成该部分所有划分块的掩盖;
步骤F:按照步骤C~E所述方式,进行右上部分的掩盖,其中该部分的参考块和参考像素位置及掩盖顺序要做相应的改变,具体的该部分和左上部分的关于X轴呈镜像对称;
步骤G:按照步骤C~E所述方式,进行右下部分的掩盖,该部分的参考块和参考像素位置及掩盖顺序和右上部分的关于Y轴呈镜像对称;
步骤H:按照步骤C~E所述方式,进行左下部分的掩盖,该部分的参考块和参考像素位置及掩盖顺序和右下部分的关于X轴呈镜像对称;
其中上述步骤在做帧内预测掩盖时,如果参考像素不存在或不可用,就按照HEVC标准进行纹理角度预测时所采取的方式使用最邻近的像素进行填充。
2.如权利要求1所述的一种基于纹理角度预测模式的HEVC帧内编码帧差错掩盖方法,其特征在于所述以最大深度确定划分即将该部分划分为一系列此深度的块,如果最大深度为0或1,则不进行划分,直接以32x32的大小进行下一步操作。
3.如权利要求1所述的一种基于纹理角度预测模式的HEVC帧内编码帧差错掩盖方法,其特征在于进行纹理角度模式推测时,如果参考块是正确接收块则其纹理角度预测模式由getIntraDir()函数得到;如果参考块不是正确接收块,则其纹理角度模式就取已经对其推测得到的模式。
4.如权利要求1所述的一种基于纹理角度预测模式的HEVC帧内编码帧差错掩盖方法,其特征在于进行纹理角度模式推测时纹理角度模式判别方法如下:
(1)若两个参考块纹理角度模式相同,就选该模式;
(2)若两个参考块的模式分别是DC模式和Planar模式,选Planar模式;
(3)若一个参考块的模式分别是DC模式或Planar模式,另一个是纹理角度模式,选该纹理角度模式;
(4)若两个参考块的预测模式是相邻的纹理角度模式,选距离主方向近的那个,即如果是垂直模式选靠近垂直方向的,如果是水平模式选靠近水平方向的;
(5)若两个参考块的预测模式是不相邻的纹理角度模式,选中间模式。
5.如权利要求1所述的一种基于纹理角度预测模式的HEVC帧内编码帧差错掩盖方法,其特征在于步骤C中利用帧内预测模式的空域相关性,参考丢失LCU周围正确接收块的编码信息,对当前丢失LCU的划分模式进行推测,既保证划分的合理性又会降低复杂度。
6.如权利要求1所述的一种基于纹理角度预测模式的HEVC帧内编码帧差错掩盖方法,其特征在于步骤D中利用空域相关性对划分块的纹理角度模式进行判别。
7.如权利要求1所述的一种基于纹理角度预测模式的HEVC帧内编码帧差错掩盖方法,其特征在于步骤E中根据推测出的划分模式和纹理角度模式对丢失块进行差错掩盖,从而在一定程度上恢复丢失LCU的纹理角度特性,有效提高掩盖质量。
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