[发明专利]镜头控制设备及其控制方法

说明书

本发明涉及一种镜头控制设备及其控制方法。在摄像设备中，控制单元基于校正量来控制镜头的驱动，其中所述校正量是根据温度检测单元所获取的温度变化以及镜头的校正系数来计算的。

技术领域

本发明大体涉及摄像镜头设备的镜头控制，尤其涉及由温度变化所引起的镜头离焦的校正及其控制方法。

背景技术

由温度变化所导致的镜筒的变形，是诸如照相机等的摄像设备中的调焦透镜的位置偏差的已知原因之一。

在日本专利特开2003-232986中，基于温度、变焦倍率和相对于变焦倍率的调焦透镜位置的温度校正数据，获得与调焦透镜的无限远距离位置相对应的位置的校正值。然后，基于这样所获得的校正值和与调焦透镜的无限远距离位置相对应的位置，执行调焦透镜驱动控制。通过上述技术，可以校正由温度变化所引起的调焦透镜的位置偏差。

然而，在日本专利特开2003-232986所述的技术中，仍然存在各种问题。

例如，日本专利特开2003-232986没有考虑下面的情况：特定材料的膨胀和收缩根据温度在上升或者下降之后是否达到了特定的度数而改变，而且调焦透镜的位置偏差还根据构件的膨胀和收缩如何发生而改变。因此，在日本专利特开2003-232986所述的技术中，出现下面的问题。

更具体地，尽管在例如温度从0℃到25℃的情况和温度从50℃到25℃的情况之间，温度达到了相同度数，但是存在可能或者不可能彻底校正由调焦透镜的位置偏差所导致的离焦的情况。

此外，例如，即使一个调焦透镜的位置偏差可以被高精度校正，也可能存在不能彻底校正另一调焦透镜的位置偏差的情况。这是因为没有考虑下面的情况：调焦透镜的位置偏差可能根据构件的膨胀和收缩在不同的各透镜中如何发生而改变。

发明内容

本发明旨在一种能够执行镜头控制的镜头控制设备及其控制方法，其中，通过该镜头控制，将由温度变化所引起的离焦校正至更接近原始聚焦状态的聚焦状态。

根据本发明的一个方面，一种镜头控制设备，其包括：温度检测单元，用于检测温度；第一计算单元，用于根据通过所述温度检测单元所检测到的多个温度来计算温度变化量；存储单元，用于存储与镜头相对应的系数数据；第二计算单元，用于基于所述第一计算单元的计算结果和所述存储单元中存储的系数来计算校正量；以及镜头控制单元，用于基于所述校正量来控制所述镜头的镜头驱动。

根据本发明的另一个方面，一种镜头控制设备的控制方法，其中，所述镜头能够以能够拆卸的方式安装至所述镜头控制设备，所述控制方法包括以下步骤：温度检测步骤，用于检测温度；第一计算步骤，用于根据所述温度检测步骤所检测出的多个温度来计算温度变化量；存储步骤，用于存储与镜头相对应的系数数据；第二计算步骤，用于基于所述第一计算步骤的计算结果和所述存储步骤中存储的系数来计算校正量；以及控制步骤，用于基于所述校正量来控制所述镜头的镜头驱动。

通过以下参考附图对典型实施例的说明，本发明的其它特征将变得明显。

附图说明

图1是示出镜筒的示意图。

图2是示出摄像设备的结构示例的图。

图3是示出根据第一典型实施例的焦点位置校正处理的流程图。

图4是示出根据第二典型实施例的焦点位置校正参数(校正系数K)的选择处理的流程图。

图5是示出根据第三典型实施例的焦点位置校正参数(校正系数K)的选择处理的流程图。

图6是示出根据第四典型实施例的高温处理的判断处理的流程图。

图7A、7B和7C示出通过这里所述的各种实施例来解决的离焦的示例性原因。