[发明专利]西洋参的人工种植方法

权利要求书

1.一种西洋参的人工种植方法，其特征在于，包括：

步骤1.在温室中设置温度检测装置、土壤湿度检测装置、二氧化碳发生装置、负离子发生装置、加热装置、风扇和喷淋装置；

所述温度检测装置、所述土壤湿度检测装置、所述加热装置、所述风扇和所述喷淋装置与设置在所述温室外部计算机连接；

所述计算机上存储有温度阈值、湿度阈值和土壤温度阈值，

其中，所述土壤湿度检测装置用于检测所述温室中土壤的湿度值，并将检测到的湿度值发送至所述计算机上，所述计算机将接收到湿度值与所述湿度阈值比较，若接收到的湿度值小于所述湿度阈值中的最小值，则所述计算机控制所述喷淋装置处于开启状态，对所述温室中的土壤，若接收到湿度值处于所述温度阈值中或大于所述湿度阈值中的最大值时，则所述计算机控制所述喷淋装置处于关闭状态；

所述温度检测装置用于检测所述温室中的温度值，并将检测到的温度值发送至所述计算机上，所述计算机将接收到温度值与所述温度阈值比较，若接收到的温度值小于所述温度阈值中的最小值，则所述计算机控制所述加热装置处于加热状态，对所述温室升温，若接收到温度值处于所述温度阈值中或大于所述温度阈值中的最大值时，则所述计算机控制所述加热装置处于关闭状态，并且控制所述风扇处于开启装置；

在所述温室中设置一组灯组，所述灯组包括白光灯、红橙光灯和蓝光灯；

在所述温室的墙壁上开设有通气孔，所述通气孔的孔径为50cm，所述通气孔与通气管的出气口连接，所述通气管的进气口与鼓风机连接，

所述鼓风机设置在所述温室外部，与所述计算机连接，所述计算机上设置有定时程序，所述计算机控制所述鼓风机每天9:00向所述温室通气体，气体流速为5m/s；

步骤2.按照每平方米50g的量，将纳米碳撒在所述温室土壤上，翻耕所述温室土壤，使纳米碳与所述温室土壤混合，采用点播方法将西洋参种子播种到所述温室土壤中，相邻西洋参种子的距离在3-5cm；

步骤3.在出苗的第5周后，每隔五天开启一次所述负离子发生装置，每次开启3-5h；

灯组的照射方式为：白光灯与红橙光灯照射一天，白光灯与蓝光灯照射一天；采用上述照射方式所述灯组每天照射1-3h；

步骤4.在出苗的第10周后，每隔三天开启一次所述二氧化碳发生装置，以3m/s的气体流速向温室中通二氧化碳气体30min，每次开启时间为11:00；

步骤5.在出苗的第20周后，每隔四周向施肥一次，每次施肥的量为每平方米0.1-0.3kg，其中，所施加的肥料为腐熟肥；

步骤6.在播种一年后，每隔四周向施肥一次，每次施肥的量为每平方米0.4-0.5kg，其中，所施加的肥料为腐熟肥；

步骤7.在播种三年后，西洋参成熟。

2.如权利要求1所述的西洋参的人工种植方法，其特征在于，所述步骤1中，所述温度阈值为20-25℃。

3.如权利要求1所述的西洋参的人工种植方法，其特征在于，所述步骤1中，所述温度阈值为50-70％。

4.如权利要求1所述的西洋参的人工种植方法，其特征在于，所述步骤5中，在出苗的第20周后，每隔四周向施肥一次，每次施肥的量为每平方米0.2kg，其中，所施加的肥料为腐熟肥。

5.如权利要求1所述的西洋参的人工种植方法，其特征在于，所述步骤6中，在播种一年后，每隔四周向施肥一次，每次施肥的量为每平方米0.5kg，其中，所施加的肥料为腐熟肥。

6.如权利要求1所述的西洋参的人工种植方法，其特征在于，所述步骤2中，在播种所述西洋参种子前还包括对所述温室土壤酸碱度调节的步骤，具体为：

采用土壤pH检测仪土壤的pH值，若检测到pH阈值范围内，则直接采用点播方法播种西洋参种子；

若检测到pH值小于pH阈值中的最小值，则向所述土壤中加入石灰后，搅拌均匀，采用清水冲洗，直至土壤检测到pH值处于pH阈值范围内，采用点播方法播种西洋参种子；

若检测到pH值大于pH阈值中的最小值，则向所述土壤中加入腐殖酸肥后，搅拌均匀，采用清水冲洗，直至土壤检测到pH值处于pH阈值范围内，采用点播方法播种西洋参种子。

7.如权利要求6所述的西洋参的人工种植方法，其特征在于，所述pH阈值为5.5-6.5。

8.如权利要求1所述的西洋参的人工种植方法，其特征在于，所述步骤3中，所述红橙灯的照射的光强为500-600lx，所述蓝光灯的照射光强为450-650lx，所述白光灯的照射光强为200-300lx。