[发明专利]一种掩膜板、基板以及显示装置在审
| 申请号： | 201710392813.3 | 申请日： | 2017-05-27 |
| 公开（公告）号： | CN106997147A | 公开（公告）日： | 2017-08-01 |
| 发明（设计）人： | 胡小弢;毕瑞琳;黎敏 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/82 | 分类号： | G03F1/82;G03F1/78;G03F1/74 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司11291 | 代理人： | 郭润湘 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 掩膜板 以及 显示装置 | ||
【权利要求书】：
1.一种掩膜板，用于显示装置制备，其特征在于，包括平板，所述平板上设有与显示装置的像素单元一一对应的多个开口；其中，每个所述开口的角落中，每相邻的两个边之间圆滑过渡。
2.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述平板上设有的多个开口中，每一个所述开口中的角落处，每相邻的两个边的交接处形成圆滑曲线型结构。
3.根据权利要求2所述的掩膜板，其特征在于，每一个所述开口的角落处，每相邻的两个边的交接处形成弧形结构。
4.一种基板，包括衬底和黑矩阵，其特征在于，包括：所述黑矩阵制备的构图工序中利用权利要求1-3任一项所述的掩膜板进行曝光处理。
5.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求4所述的基板。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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