[发明专利]TOC型OLED显示器的制作方法及TOC型OLED显示器在审

专利信息
申请号: 201710389002.8 申请日: 2017-05-25
公开(公告)号: CN107221552A 公开(公告)日: 2017-09-29
发明(设计)人: 刘方梅;周星宇 申请(专利权)人: 深圳市华星光电技术有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32
代理公司: 深圳市德力知识产权代理事务所44265 代理人: 林才桂
地址: 518132 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: toc oled 显示器 制作方法
【权利要求书】:

1.一种TOC型OLED显示器的制作方法,其特征在于,包括以下步骤:

步骤S1、提供衬底基板(1),对衬底基板(1)进行清洗和预烘烤;

步骤S2、沉积黑色遮光薄膜,对黑色遮光薄膜进行图案化处理,形成黑色矩阵(2);

步骤S3、在所述黑色矩阵(2)内依次沉积不同颜色的色阻,形成彩色滤光层(3);

步骤S4、在所述彩色滤光层(3)上沉积形成平坦层(4);

步骤S5、在所述平坦层(4)上沉积第一金属层,对第一金属层进行图案化处理,形成栅极(5);

步骤S6、在所述栅极(5)与平坦层(4)上沉积覆盖栅极绝缘层(6);

步骤S7、配置掺杂有锂的氧化锌溶液,将配置好的掺杂有锂的氧化锌溶液旋涂在栅极绝缘层(6)上形成掺杂有锂的氧化锌涂层,然后对掺杂有锂的氧化锌涂层做退火处理,再对掺杂有锂的氧化锌涂层进行图案化处理,形成沟道层(7);

步骤S8、沉积刻蚀阻挡层(8),并对刻蚀阻挡层(8)进行图案化处理,形成分别暴露出沟道层(7)两侧的第一过孔(81)、与第二过孔(82);

步骤S9、在所述刻蚀阻挡层(8)上沉积第二金属层,并对第二金属层进行图案化处理,形成源极(91)、与漏极(92);所述源极(91)、漏极(92)分别经由第一过孔(81)、第二过孔(82)接触沟道层(7)的两侧;

步骤S10、在所述刻蚀阻挡层(8)、源极(91)、及漏极(92)上依次制作出保护层(10)、阳极(11)、像素定义层(12)、OLED发光层(13)、及阴极(14)。

2.如权利要求1所述的TOC型OLED显示器的制作方法,其特征在于,所述步骤S1中,所述衬底基板(1)为玻璃基板。

3.如权利要求1所述的TOC型OLED显示器的制作方法,其特征在于,所述步骤S3中,所述不同颜色的色阻包括红色色阻(R)、绿色色阻(G)、及蓝色色阻(B)。

4.如权利要求1所述的TOC型OLED显示器的制作方法,其特征在于,所述平坦层(4)、栅极绝缘层(6)、刻蚀阻挡层(8)、与保护层(10)的材料均为氧化硅、氮化硅、或二者的组合。

5.如权利要求1所述的TOC型OLED显示器的制作方法,其特征在于,所述第一金属层与第二金属层的材料均为钼、钛、铝、铜中的一种或几种的堆栈组合。

6.如权利要求1所述的TOC型OLED显示器的制作方法,其特征在于,所述步骤S7中,以氢氧化锂与氢氧化锌为原料来配置掺杂有锂的氧化锌溶液。

7.如权利要求1所述的TOC型OLED显示器的制作方法,其特征在于,所述阳极(11)的材料为氧化铟锡。

8.一种TOC型OLED显示器,其特征在于,通过如权利要求1~7任一项所述的TOC型OLED显示器的制作方法制得,其内的沟道层(7)的材料为掺杂有锂的氧化锌。

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