[发明专利]可调节平坦度的框架有效

专利信息
申请号: 201710384776.1 申请日: 2017-05-26
公开(公告)号: CN107099769B 公开(公告)日: 2019-08-02
发明(设计)人: 王震;林治明;黄俊杰 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;C23C14/24;H01L51/00
代理公司: 北京律智知识产权代理有限公司 11438 代理人: 邢雪红;王卫忠
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 调节 平坦 框架
【权利要求书】:

1.一种可调节平坦度的框架,包括:

矩形边框,由分别相对的两对框条构成;

多个上部肋条,所述多个上部肋条中的任何一个经过拉伸后跨越所述矩形边框且两端分别与相对的两个框条的上表面连接;以及

形成在所述矩形边框底部的沟槽,沟槽在任一框条中的部分的延伸方向与该框条的延伸方向一致;其中

所述沟槽中设置有至少一个下部肋条,所述下部肋条的延伸方向与其所在的框条的延伸方向一致,且所述下部肋条经过拉伸后其两端与所述矩形边框的下表面连接。

2.根据权利要求1所述的框架,其特征在于,所述上部肋条或下部肋条与所述矩形边框的连接方式为焊接。

3.根据权利要求1所述的框架,其特征在于,所述下部肋条的高度不大于所述沟槽的深度。

4.根据权利要求1所述的框架,其特征在于,所述沟槽的侧壁具有缺口。

5.根据权利要求4所述的框架,其特征在于,所述缺口的深度不大于所述沟槽的深度。

6.根据权利要求1所述的框架,其特征在于,任一框条中的所述沟槽中均设置有所述下部肋条。

7.根据权利要求1所述的框架,其特征在于,根据所述框架的平坦度的测量结果增加或减少所述下部肋条的数量。

8.根据权利要求1所述的框架,其特征在于,所述框架用于掩模。

9.根据权利要求8所述的框架,其特征在于,所述掩模为精细金属掩膜。

10.根据权利要求9所述的框架,其特征在于,所述精细金属掩膜用于有机电致发光显示面板有机发光材料的蒸镀。

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