[发明专利]奥氏体钢的热处理方法及由此得到的奥氏体钢有效
申请号: | 201710383822.6 | 申请日: | 2017-05-26 |
公开(公告)号: | CN107435087B | 公开(公告)日: | 2020-01-07 |
发明(设计)人: | J·布雷;C·沙邦;V·费伊 | 申请(专利权)人: | 斯沃奇集团研究和开发有限公司 |
主分类号: | C21D1/18 | 分类号: | C21D1/18;C21D1/26 |
代理公司: | 11247 北京市中咨律师事务所 | 代理人: | 秘凤华;吴鹏 |
地址: | 瑞士*** | 国省代码: | 瑞士;CH |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 奥氏体 热处理 方法 由此 得到 | ||
1.一种热处理方法,用于奥氏体HNS或奥氏体HIS,所述奥氏体HNS或奥氏体HIS含有铬和/或钼的氮化物、碳化物或碳氮化物的沉淀物,所述方法包括在机加工含有沉淀物的奥氏体HNS或奥氏体HIS之后的下列步骤:通过使奥氏体HNS或奥氏体HIS达到其奥氏体化温度,使沉淀物再次处于溶解状态,然后足够快速地冷却奥氏体HNS或奥氏体HIS,以避免沉淀物重新形成,其中,为了在机加工之前使奥氏体HNS或奥氏体HIS中出现铬和/或钼的氮化物、碳化物或碳氮化物类型的沉淀物,提供奥氏体HNS或奥氏体HIS合金,使该合金达到其奥氏体化温度或在奥氏体化温度下烧结,然后,将奥氏体HNS或奥氏体HIS合金的温度直接从所述奥氏体化温度足够缓慢地降低,以便在所得到的奥氏体HNS或奥氏体HIS结构中出现沉淀物,然后,使奥氏体HNS或奥氏体HIS最终返回到环境温度。
2.一种热处理方法,用于奥氏体HNS或奥氏体HIS,所述奥氏体HNS或奥氏体HIS含有铬和/或钼的氮化物、碳化物或碳氮化物的沉淀物,所述方法包括在机加工含有沉淀物的奥氏体HNS或奥氏体HIS之后的下列步骤:通过使奥氏体HNS或奥氏体HIS达到其奥氏体化温度,使沉淀物再次处于溶解状态,然后足够快速地冷却奥氏体HNS或奥氏体HIS,以避免沉淀物重新形成,其中,为了在机加工之前使奥氏体HNS或奥氏体HIS中出现铬和/或钼的氮化物、碳化物或碳氮化物类型的沉淀物,提供奥氏体HNS或奥氏体HIS合金,使该合金达到其奥氏体化温度或在奥氏体化温度下烧结,然后,对奥氏体HNS或奥氏体HIS合金直接从所述奥氏体化温度进行冷却热处理,并且当温度达到出现沉淀物的数值时,中断对所得到的奥氏体HNS或奥氏体HIS的冷却,将所述奥氏体HNS或奥氏体HIS保持在该温度一段时间以使得沉淀物出现,然后使奥氏体HNS或奥氏体HIS最终返回到环境温度。
3.一种热处理方法,用于奥氏体HNS或奥氏体HIS,所述奥氏体HNS或奥氏体HIS含有铬和/或钼的氮化物、碳化物或碳氮化物的沉淀物,所述方法包括在机加工含有沉淀物的奥氏体HNS或奥氏体HIS之后的下列步骤:通过使奥氏体HNS或奥氏体HIS达到其奥氏体化温度,使沉淀物再次处于溶解状态,然后足够快速地冷却奥氏体HNS或奥氏体HIS,以避免沉淀物重新形成,其中,为了在机加工之前使奥氏体HNS或奥氏体HIS中出现铬和/或钼的氮化物、碳化物或碳氮化物类型的沉淀物,对奥氏体HNS或奥氏体HIS合金在奥氏体化温度下进行奥氏体化热处理或烧结热处理,然后,对奥氏体HNS或奥氏体HIS合金淬火并重新加热到一定温度且持续一段时间,使得铬和/或钼的氮化物、碳化物或碳氮化物类型的沉淀物出现。
4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,在淬火之后且在使奥氏体HNS或奥氏体HIS达到一定温度且持续一段时间以使得铬和/或钼的氮化物、碳化物或甚至碳氮化物类型的沉淀物出现之前,使奥氏体HNS或奥氏体HIS进行冷变形。
5.一种钟表或珠宝首饰的元件,所述元件是从实施根据权利要求1至4中任一项所述的热处理方法得到的奥氏体HNS或奥氏体HIS获得的。
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