[发明专利]一种3年及以上生黄桃种植期减施肥料的种植方法在审
| 申请号: | 201710379650.5 | 申请日: | 2017-05-25 |
| 公开(公告)号: | CN107258424A | 公开(公告)日: | 2017-10-20 |
| 发明(设计)人: | 吕德文 | 申请(专利权)人: | 马鞍山市绿营林业有限公司 |
| 主分类号: | A01G17/00 | 分类号: | A01G17/00;A01G13/00;A01C21/00 |
| 代理公司: | 合肥广源知识产权代理事务所(普通合伙)34129 | 代理人: | 李显锋 |
| 地址: | 238100 安徽省马鞍*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 以上 生黄桃 种植 施肥 方法 | ||
1.一种3年及以上生黄桃种植期减施肥料的种植方法,其特征在于,具体的,
每年春季3月中旬-4月初,对黄桃植株进行整形,剪去黄桃80-90%新生枝芽、剪去15-20%非挂果侧枝、用网状半圆形模具将黄桃树冠套在模具内部,网状半圆形模具半径为80-120cm,修剪从网孔伸出的枝叶;
修剪完成后,叶面喷施一次青霉菌水解液;
喷施完成16-20天,在黄桃根系处施加壳聚糖稀释液,并在黄桃树60-65cm半径范围挖环形槽,5-7天后,根施复合肥,保证施肥均匀,厚度一致,施肥半径小于环形槽半径,30-38天后,根施有机肥,保证施肥均匀,厚度一致,施肥半径小于环形槽半径;
所述青霉素水解液制作时,将青霉菌接种于青瓜原汁中,全暗环境中常温放置青瓜原汁表层长出一层青霉菌菌丝,将菌丝从青瓜原汁中分离出去,青瓜原汁在180-200℃的蒸汽下蒸制灭菌40-50秒,稀释100-120倍,得到青霉素水解液;
所述壳聚糖稀释液制作时,将壳聚糖与水按1:1800-2200的体积比混合搅拌均匀,加硫酸亚铁调节pH至5.6-5.8,按3-5‰的比例接种胶原蛋白酶,得到壳聚糖稀释液。
2.根据权利要求1所述的一种3年及以上生黄桃种植期减施肥料的种植方法,其特征在于,
环形槽槽深30-40cm。
3.根据权利要求1或2所述的一种3年及以上生黄桃种植期减施肥料的种植方法,其特征在于,
在环形槽内填覆琉璃石。
4.根据权利要求1所述的一种3年及以上生黄桃种植期减施肥料的种植方法,其特征在于,
复合肥施肥半径为30-35cm,有机肥施肥半径为48-50cm。
5.根据权利要求1或4所述的一种3年及以上生黄桃种植期减施肥料的种植方法,其特征在于,
复合肥施撒结束后,在复合肥上层覆盖一层0.5-0.8cm厚的原土。
6.根据权利要求1所述的一种3年及以上生黄桃种植期减施肥料的种植方法,其特征在于,
青霉菌按1-1.5‰的比例接种于青瓜原汁中。
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