[发明专利]用于光刻图案化的方法在审
| 申请号： | 201710379205.9 | 申请日： | 2017-05-25 |
| 公开（公告）号： | CN108663909A | 公开（公告）日： | 2018-10-16 |
| 发明（设计）人： | 刘朕与;张庆裕;林进祥 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 | 代理人： | 章社杲;李伟 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 材料层 显影剂 光刻图案 溶质 形成材料 有机溶剂 图案化 衬底 去除 曝光 辐射 暴露 | ||
1.一种用于光刻图案化的方法，包括：
在衬底上方形成材料层；
将所述材料层的部分暴露于辐射；以及
在显影剂中去除所述材料层的曝光部分，产生图案化的材料层，其中，所述显影剂包括水、有机溶剂和碱性溶质。
2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述碱性溶质小于所述显影剂的重量的30％。
3.根据权利要求1所述的方法，其中，所述水大于所述显影剂的重量的20％。
4.根据权利要求1所述的方法，其中，所述有机溶剂包括下列中的一种：OH官能团、NH官能团、NH2官能团、SH官能团、OMe官能团和OEt官能团。
5.根据权利要求1所述的方法，其中，所述有机溶剂包括RO(CH2)nOR官能团，并且其中，n为≥2的整数。
6.根据权利要求5所述的方法，其中，R是下列中的一种：氢原子和少于10个碳原子的烷基。
7.根据权利要求1所述的方法，其中，所述有机溶剂具有小于500的分子量(Mw)。
8.根据权利要求7所述的方法，其中，所述有机溶剂为下列中的一种：乙二醇、二甘醇和丙二醇。
9.一种用于光刻图案化的方法，包括：
在衬底上方形成光刻胶层；
将所述光刻胶层的部分暴露于辐射；以及
在显影剂中去除所述光刻胶层的曝光部分，产生图案化的光刻胶层，其中，所述显影剂包括：
碱性溶质，小于所述显影剂的重量的30％；
水，大于所述显影剂的重量的20％；和
有机溶剂，大于所述显影剂的重量的5％。
10.一种用于光刻图案化的方法，包括：
在衬底上方形成材料层；
将所述材料层的部分暴露于辐射；以及
在正性显影剂中去除所述材料层的曝光部分，产生图案化的材料层，其中，所述正性显影剂包括有机溶剂和碱性溶质。
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