[发明专利]集成成像光场显示系统透镜阵列的校准方法有效

专利信息
申请号: 201710378464.X 申请日: 2017-05-18
公开(公告)号: CN107121786B 公开(公告)日: 2019-07-19
发明(设计)人: 闫兴鹏;严志强;苏健;蒋晓瑜;王特;陈祎贝;刘军辉;陈卓;汪熙 申请(专利权)人: 中国人民解放军装甲兵工程学院
主分类号: G02B27/22 分类号: G02B27/22
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 100072 北京市丰*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 集成 成像 显示 系统 透镜 阵列 校准 方法
【权利要求书】:

1.一种集成成像光场显示系统透镜阵列的校准方法,其特征在于,所述集成成像光场显示系统包括显示面板(1)、透镜阵列(2)和定向散射屏(3),所述显示面板(1)上加载单元图像阵列,每一单元图像与透镜一一对应,且校准后透镜的光心与单元图像的中心横向重合,单元图像阵列经透镜阵列(2)投影后重构出三维场景,在重构三维场景的某一平面放置定向散射屏(3),提高了定向散射屏(3)后一段深度范围内的人眼观看的集成成像的可视分辨率;

透镜阵列(2)中的透镜在装配过程中存在误差,透镜的间距不为定值,实际透镜位置会偏离理想透镜位置,采用以下方法减小透镜阵列(2)光心位置的横向偏差:

A.理想透镜光心与显示面板(1)上相应单元图像的中心的连线与定向散射屏(3)会有交点,在定向散射屏(3)上标记出该交点作为参考点,所有的参考点具有相同的间距;

B.在显示面板(1)上加载校验图像,校验图像的中心与单元图像的中心重合,该校验图像经实际透镜后会在定向散射屏(3)上成像,所成像的中心与参考点之间存在偏差,为了在定向散射屏(3)上得到清晰的像,定向散射屏(3)位于透镜像平面;

C.调整校验图像的加载位置,使其逐渐偏离理想透镜对应单元图像的中心点,该校验图像的中心经实际透镜后所成像会逐渐逼近定向散射屏(3)上相应的参考点;

D.当校验图像经实际透镜所成像与定向散射屏(3)上参考点重合时,将此时校验图像的加载位置作为实际透镜对应单元图像的中心点,进而减小透镜阵列(2)光心位置的横向偏差。

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