[发明专利]一种胶点检验方法与装置在审

专利信息
申请号: 201710373355.9 申请日: 2017-05-24
公开(公告)号: CN107358597A 公开(公告)日: 2017-11-17
发明(设计)人: 戴明航 申请(专利权)人: 上海视马艾智能科技有限公司
主分类号: G06T7/00 分类号: G06T7/00;G06T7/136;G06T7/194;G06T5/00
代理公司: 上海晨皓知识产权代理事务所(普通合伙)31260 代理人: 成丽杰
地址: 200335 上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 检验 方法 装置
【权利要求书】:

1.一种胶点检验方法,其特征在于,包括:

获取待检验物表面的第一图像;

将所述待检验物表面的第一图像中的胶点与背景进行分离处理,得到去除背景的第二图像;

判断所述第二图像中的胶点是否合格,并显示判断结果。

2.根据权利要求1所述的胶点检验方法,其特征在于,所述将所述待检验物表面的第一图像中的胶点与背景进行分离处理,得到去除背景的第二图像,包括:

均衡处理所述第一图像;

对所述第一图像进行去噪处理,得到去噪处理后的所述待检验物表面的第三图像;

通过膨胀所述第三图像,填充所述第三图像中的胶点上的孔洞,得到所述待检验物表面的第二图像。

3.根据权利要求2所述的胶点检验方法,其特征在于,所述对所述第一图像进行去噪处理,得到去噪处理后的所述待检验物表面的第三图像,包括:

对所述第一图像进行开操作处理,删除所述第一图像中的第一噪声目标;其中,所述第一噪声目标为所述第一图像中尺寸小于第一预设尺寸的噪声点;

对所述第一图像进行动差阈值处理,删除所述第一图像中的第一边界干扰目标;其中,所述第一边界干扰目标为所述第一图像中的胶点边界的干扰目标;

在所述第一图像中,删除第二边界干扰目标,得到所述待检验物表面的第三图像;其中,所述第二边界干扰目标为所述第二图像边界的干扰目标。

4.根据权利要求2所述的胶点检验方法,其特征在于,所述膨胀所述第三图像后,得到所述待检验物表面的第二图像前,还包括:

删除所述第三图像中的第二噪声目标;其中,所述第二噪声目标为所述第三图像中尺寸大于第二预设尺寸的噪声点,所述第二预设尺寸大于所述第一预设尺寸。

5.根据权利要求1所述的胶点检验方法,其特征在于,所述判断所述第二图像中的胶点是否合格,包括:

获取所述第二图像中的胶点的面积;

若所述第二图像中的胶点的面积满足预设条件,则判定所述待检验物合格;所述预设条件为所述胶点的面积等于预设阈值;

若所述胶点的面积大于或小于预设阈值,则判定所述第二图像中的胶点不合格,所述待检验物不合格。

6.一种胶点检验装置,其特征在于,包括:

获取模块,用于获取待检验物表面的第一图像;

分离模块,用于将所述待检验物表面的第一图像中的胶点与背景进行分离处理,得到去除背景的第二图像;

判断模块,用于判断所述第二图像中的胶点是否合格,并显示判断结果。

7.根据权利要求6所述的胶点检验装置,其特征在于,包括:所述分离模块包括:

均衡处理子模块,用于均衡处理所述第一图像;

去噪子模块,用于对所述第一图像进行去噪处理,得到去噪处理后的所述待检验物表面的第三图像;

填充子模块,用于通过膨胀所述第三图像,填充所述第三图像中的胶点上的孔洞,得到所述待检验物表面的第二图像。

8.根据权利要求7所述的胶点检验装置,其特征在于,包括:所述去噪子模块包括:

第一噪声目标删除单元,用于对所述第一图像进行开操作处理,删除所述第一图像中的第一噪声目标;其中,所述第一噪声目标为所述第一图像中尺寸小于第一预设尺寸的噪声点;

第一边界干扰目标删除单元,用于对所述第一图像进行动差阈值处理,删除所述第一图像中的第一边界干扰目标;其中,所述第一边界干扰目标为所述第一图像中的胶点边界的干扰目标;

第二边界干扰目标删除单元,用于在所述第一图像中,删除第二边界干扰目标,得到所述待检验物表面的第三图像;其中,所述第二边界干扰目标为所述第二图像边界的干扰目标。

9.根据权利要求7所述的胶点检验装置,其特征在于,包括:所述分离模块还包括第二噪声目标删除子模块;

所述第二噪声目标删除子模块用于删除所述第三图像中的第二噪声目标;其中,所述第二噪声目标为所述第三图像中尺寸大于第二预设尺寸的噪声点,所述第二预设尺寸大于所述第一预设尺寸;

所述填充子模块具体用于通过膨胀第二噪声目标删除前的所述第三图像,填充所述第三图像中的胶点上的孔洞。

10.根据权利要求6所述的胶点检验装置,其特征在于,包括:所述判断模块包括:

面积获取子模块,用于获取所述第二图像中的胶点的面积;

胶点判断子模块,用于在所述胶点的面积大于或小于预设阈值时,判定所述第二图像中的胶点不合格,所述待检验物不合格。

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