[发明专利]显示面板中有机功能层的制作方法

说明书

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板中有机功能层的制作方法。

背景技术

液晶显示装置(Liquid Crystal Display，LCD)具有机身薄、省电、无辐射等众多优点，得到了广泛的应用。现有市场上的液晶显示装置大部分为背光型液晶显示装置，其包括液晶显示面板及背光模组(backlight module)。通常液晶显示面板由彩膜(Color Filter，CF)基板、薄膜晶体管(Thin Film Transistor，TFT)基板、夹于彩膜基板与薄膜晶体管基板之间的液晶(Liquid Crystal，LC)及密封胶框(Sealant)组成。其中，液晶层厚度即盒厚(Cell Gap)主要通过设置在阵列基板和彩膜基板之间的隔垫物(Post Spacer，PS)的高度来进行控制，液晶层厚度对液晶显示装置的结构参数和显示质量有重要的影响，在彩膜基板和薄膜晶体管基板对盒后即形成液晶显示面板，处于彩膜基板和薄膜晶体管基板之间的隔垫物对上述两个基板进行支撑以及缓冲，从而维持预定的盒厚，保证画面显示的稳定。

目前大尺寸高分辨率的电视越来越受到消费者青睐。在大尺寸液晶显示面板中，通常会使用两种类型以上的隔垫物，如在彩膜基板上设置主隔垫物(Main PS)、及辅助隔垫物(Sub PS)，起到多级缓冲的作用，以防止各种亮度不均(Mura)或者不良的发生。其中，主隔垫物的高度大于辅助隔垫物的高度，辅助隔垫物的数量大于主隔垫物的数量，两者需要通过不同工艺形成。当液晶面板成盒后，主隔垫物会有一定的压缩量，支撑盒厚，处于压缩状态，而辅助隔垫物没有压缩量。当液晶面板受到过大外力的时候，辅助隔垫物才被压缩，起到辅助支撑作用。

目前使用的隔垫物一般通过掩膜、光刻等工艺形成在彩膜基板上，那么，对于隔垫物的具体制作过程通常包括如下步骤：

步骤S11、如图1所示，将彩膜基板100上的氧化铟锡(ITO)层110制作完成后，对彩膜基板100进行清洗，然后在清洗后的彩膜基板100上涂布一层用于形成隔垫物的光阻材料，形成光阻层200。

步骤S12、如图2所示，对所述光阻层200进行真空干燥、预烘烤及冷却制程，使得所述光阻层200硬化；然后利用掩膜板(mask)500对所述光阻层200进行曝光。

步骤13、如图3所示，对曝光后的光阻层200进行显影，通过显影制程去除光阻层200上多余的部分，在彩膜基板100上固定位置处得到类柱状的隔垫物350。

另外，对于LCD显示面板中其他图形化的有机功能层，例如黑色矩阵层(Black Matrix，BM)也一般通过掩膜、光刻等工艺形成，材料消耗量较大、制作过程繁琐、生产周期(circle time)较长。

微发光二极管(Micro LED)是一种尺寸在几微米到几百微米之间的器件，由于其较普通LED的尺寸要小很多，从而使得单一的LED作为像素(Pixel)用于显示成为可能，Micro LED显示器便是一种以高密度的Micro LED阵列作为显示像素阵列来实现图像显示的显示器，同大尺寸的户外LED显示屏一样，每一个像素可定址、单独驱动点亮，可以看成是户外LED显示屏的缩小版，将像素点距离从毫米级降低至微米级，Micro LED显示器和有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode，OLED)显示器一样属于自发光显示器，但Micro LED显示器相比于OLED显示器还具有材料稳定性更好、寿命更长、无影像烙印等优点，被认为是OLED显示器的最大竞争对手。