[发明专利]等离子体处理方法

权利要求书

1.一种用于等离子体处理装置的等离子体处理方法，其特征在于：

所述等离子体处理装置包括：

能够真空排气的处理容器；

在所述处理容器内载置被处理基板的下部电极；

配置于所述下部电极的周围的聚焦环；

在所述处理容器内与所述下部电极相对配置的内侧上部电极；

在所述处理容器内与所述内侧上部电极电绝缘且配置于该内侧上部电极的外侧的外侧上部电极；

配置在所述内侧上部电极与所述外侧上部电极之间且配置于所述聚焦环的上方的石英部件；

向所述内侧上部电极和所述外侧上部电极与所述下部电极之间的处理空间供给处理气体的气体供给部；

通过高频放电向所述下部电极或所述内侧上部电极和所述外侧上部电极施加用于生成所述处理气体的等离子体的第一高频电力的第一高频供电部；

向所述外侧上部电极施加可变的第一直流电压的第一直流供电部；和

对所述第一直流电压进行控制的控制部，

所述控制部对所述第一直流电压进行控制以降低倾斜角度的变化量。

2.如权利要求1所述的等离子体处理方法，其特征在于：

所述等离子体处理装置包括向所述内侧上部电极施加可变的第二直流电压的第二直流供电部。

3.如权利要求1或2所述的等离子体处理方法，其特征在于：

所述控制部参照将处理的种类和倾斜的容许角度建立了对应的存储部，对所述第一直流电压进行控制以在与执行的处理对应的所述倾斜的容许角度内降低倾斜角度的变化量。