[发明专利]一种新型镭射全息定位图案介质纸的工艺在审

专利信息
申请号: 201710367073.8 申请日: 2017-05-23
公开(公告)号: CN107058952A 公开(公告)日: 2017-08-18
发明(设计)人: 罗万里 申请(专利权)人: 中丰田光电科技(珠海)有限公司
主分类号: C23C14/06 分类号: C23C14/06;C23C14/24;D21H21/40;D21H25/08;D21H27/00
代理公司: 广州三环专利商标代理有限公司44202 代理人: 温旭
地址: 519000 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 新型 镭射 全息 定位 图案 介质 工艺
【说明书】:

技术领域

发明涉及包装领域,特别是涉及一种新型镭射全息定位图案介质纸的工艺。

背景技术

在世界范围内各类包装纸的使用极为广泛,而全息镭射转移纸具有高贵美观的动感图案,普通的镀铝镭射转移纸具有金属感效果,而本项目研究的新型镀硫化锌定位镭射转移可提供半透明效果,不同于原镀铝镭射转移效果,其新颖独特的效果越来越多地受到人们的喜爱,稳定可靠的印刷性能以及可降解、可环保属性,可广泛应用在包装行业新型绿色防伪包装材料。

发明内容

一种新型镭射全息定位图案介质纸的工艺,其步骤包括:

(1)原稿设计:将待包装的图案进行设计;

(2)光刻制版:采用定位镭射光刻技术,先将低膜PET薄膜进行清洗、烘干和增粘处理,然后在低膜上涂胶,在80-110℃下进行烘烤,镭射光刻曝光显影,最后刻蚀去胶;

(3)镀前电晕处理:先对PET薄膜进行除油、除尘预处理,然后将待镀层的PET薄膜进行电晕处理,处理电压控制在10000~20000V,时长为30-70min;

(4)镀介质层:采用涂布的方式,在PET薄膜上涂布硫化锌,底涂烘干,烘干的温度为60-70℃,时间2小时,采用真空镀膜法对PET薄膜进行镀膜处理,镀层的要求为:纯度大于95%的硫化锌介质,镀层厚度90~96OD,均匀;

(5)分切整理:将处理好的PET薄膜进行分切整理;

(6)纸膜复膜、剥离、表面上清漆:将处理后的PET薄膜上通过热压粘合到介质纸的表面,待图案冷却定型,即可将薄膜剥离,在图案表面上清漆;

(7)裁切平张纸:对成型的定位介质纸进行裁切平整;

(8)定位介质纸/珠光卡纸;将定位介质纸覆到珠光卡纸上即可。

优选的,所述步骤(2)PET薄膜的增粘处理过程为:将增粘剂EVA涂布到PET薄膜上。

优选的,所述步骤(3)PET薄膜除油采用覆盖过滤器技术对薄膜进行表面除油。

优选的,所述步骤(4)中镀膜工艺为:使用真空连续镀膜机,用氮化硼蒸发舟作为蒸发源,将结晶成块状的硫化锌放在蒸发舟上,使蒸发舟升温,蒸发舟上的硫化锌高温下蒸发成雾状,使PET薄膜片连续通过雾状的硫化锌,雾状的硫化锌将会均匀地吸附在PET薄膜片表面,在PET薄膜片表面形成一层硫化锌镀膜。

优选的,所述步骤(6)中使用使用的介质纸为光银纸。

优选的,所述步骤(6)中上清漆的工艺过程为,首先第一遍上漆,带清漆干燥后,再上第二遍上漆,干燥。

有益效果:本发明提供了一种新型镭射全息定位图案介质纸的工艺,利用定位镭射光刻技术与镀硫化锌技术,实现特殊的定位防伪效果,同时由于采用镀硫化锌提供了半透明效果,使产品定位图案无法复制,有效的保护商品图案产权和防伪性能,从而提供一种新型的半透明印刷防伪材料,所述步骤(2)PET薄膜的增粘处理过程为:将增粘剂EVA涂布到PET薄膜上,该步骤能够有效增加PET薄膜的粘性,便于后续涂胶的工艺,所述步骤(3)PET薄膜除油采用覆盖过滤器技术对薄膜进行表面除油,该方法能够快速简便的除去薄膜表面的油脂,所述步骤(4)中镀膜工艺为:使用真空连续镀膜机,用氮化硼蒸发舟作为蒸发源,将结晶成块状的硫化锌放在蒸发舟上,使蒸发舟升温,蒸发舟上的硫化锌高温下蒸发成雾状,使PET薄膜片连续通过雾状的硫化锌,雾状的硫化锌将会均匀地吸附在PET薄膜片表面,在PET薄膜片表面形成一层硫化锌镀膜,该方法能够快速均匀的在薄膜表面形成一层硫化锌的薄膜,所述步骤(6)中使用使用的介质纸为光银纸,该工艺使用的光银纸能够使得在包装上印刷图案更加美观,所述步骤(6)中上清漆的工艺过程为,首先第一遍上漆,带清漆干燥后,再上第二遍上漆,干燥,上两遍清洗能够有效的增强薄膜的透明性、光泽性和耐水性。

具体实施方式

为使本发明实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面结合具体实施方式,进一步阐述本发明。

实施例1:

一种新型镭射全息定位图案介质纸的工艺,其步骤包括:

(1)原稿设计:将待包装的图案进行设计;

(2)光刻制版:采用定位镭射光刻技术,先将低膜PET薄膜进行清洗、烘干和增粘处理,PET薄膜的增粘处理过程为:将增粘剂EVA涂布到PET薄膜上,然后在低膜上涂胶,在80℃下进行烘烤,镭射光刻曝光显影,最后刻蚀去胶;

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