[发明专利]用于分批向内装载和向外卸载基底的真空处理设备及方法

说明书

根据不同的实施方式提供一种真空处理设备(100)，其具有装卸腔室装置(102)、转运腔室装置(112)和处理腔室装置(122)，其中，转运腔室装置(112)具有转运腔室，该转运腔室具有用于在转运腔室中容纳基底的长度，且其中，装卸腔室装置(102)具有三个彼此邻接的装卸腔室(102a、102b、102c)，所述装卸腔室这样地被设置，即其可分别单独借助于阀装置(104)分开，其中，装卸腔室中的每个装卸腔室具有比转运腔室更小的长度。

技术领域

本发明涉及用于借助装卸腔室装置将基底分批向内装载到处理腔室装置中的真空处理设备、方法和涉及用于借助装卸腔室装置分批地将基底从处理腔室装置向外卸载的方法。

背景技术

通常，基底，诸如板形的基底，例如玻璃板或晶圆在真空处理设备被处理，例如在真空涂层装置中被涂层。在此，板形的基底可在运送系统的运送辊被运送通过真空处理设备。机械敏感的基底，例如晶圆可借助于基底载体在真空处理设备中被运送(所谓的载体原则)，其中，基底载体相应地在运送系统的运送辊上被运送通过真空处理设备。

发明内容

根据不同的实施方式，提出具有多个真空腔室的真空处理设备，其中，真空处理设备模块化地被构建，或其中，真空腔室这样地被设置，使得真空处理设备具有模块化结构。根据不同的实施方式，真空处理设备的多个真空腔室分别可具有室壳体，其中，室壳体这样地被设置，即室壳体的盖开口可被室盖覆盖。明显地，真空处理设备的多个真空腔室可通过下述方式被打开，即相应的室盖被取下或掀开，以及通过下述方式被关闭，即相应的室盖被放置或盖上。

根据不同的实施方式，多个室壳体可这样地相互连接，使得其提供用于多个真空腔室的共用的腔室壳体，其中，在该情况下该共用的腔室壳体可借助于多个相应被设置的室盖被密封。例如，室壳体的多个区域可借助于竖直室壁(被称为隔板壁)被相互分开。根据不同的实施方式，在用于处理基底或基底带的室壳体中可提供一个或多个处理区域，和/或可提供用于对室壳体抽真空的一个或多个泵区域。

室壳体例如可这样地被设置，使得其可被用作为用于不同的真空腔室的基腔(容器)，例如室壳体可被用于装卸腔室，其中，装卸腔室例如可在预真空范围和/或高真空范围中(例如在接近处理真空的范围中，例如在大约10^-2mbar至大约10^-7mbar的范围中，例如在大约10^-2mbar至大约10^-5mbar的范围中)运行。此外，室壳体可被用于缓冲腔或转运腔室。在此，各真空腔室的功能或运行方式由于通过室壳体而被使用的室盖而被限定。例如，基腔可配合不同的处理室盖，从而分别实施预定义的处理。由此可广泛地地使用室壳体，室壳体可具有至少一个连接法兰，用于连接预真空泵或预真空泵装置。替选地，室壳体可借助于泵盖被抽真空，或处理室盖可具有连接法兰，其用于连接预真空泵或预真空泵装置。由此，在借助于室盖密封的室壳体可产生或提供至少一个预真空(Vorvakuum)。当在被密封的室壳体中应产生高真空时，可借助于合适的室盖实现，其中，室盖例如可具有连接法兰，其用于连接高真空泵或高真空泵装置，或室壳体自身可具有连接法兰，其用于连接高真空泵或高真空泵装置，例如可在室壳体的侧面室壁中提供连接法兰。

根据不同的实施方式，装卸腔室可分别具有仅一个室壳体，或借助于仅一个室壳体被提供。此外，用于处理室的室壳体可不同于装卸腔室的室壳体。例如，用于处理室的室壳体可具有比用于装卸腔室的室壳体更大的横截面(垂直于运送方向看)。此外，用于转运腔室的室壳体可不同于装卸腔室和处理室的室壳体。例如，用于转运腔室的室壳体可在开始时具有与装卸腔室相同的横截面积，且在结束时具有与处理室相同的横截面积(即，更宽且更高)，使得转运腔室可形成在装卸腔室与处理室之间的过渡。