[发明专利]像素结构及其制作方法在审
| 申请号： | 201710357231.1 | 申请日： | 2017-05-19 |
| 公开（公告）号： | CN107994049A | 公开（公告）日： | 2018-05-04 |
| 发明（设计）人： | 李耘 | 申请（专利权）人： | 广东聚华印刷显示技术有限公司 |
| 主分类号： | H01L27/32 | 分类号： | H01L27/32;H01L51/56 |
| 代理公司： | 广州华进联合专利商标代理有限公司44224 | 代理人： | 向薇,王园园 |
| 地址： | 510000 广东省广州市广州*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 像素 结构 及其 制作方法 | ||
1.一种像素结构，其特征在于，包括：
基板；
层叠于所述基板之上的至少一层第一像素界定层，所述第一像素界定层设有与预设像素区域相对应的第一像素腔；所述第一像素腔的内壁设有至少一个缺口，所述缺口开口于所述第一像素腔。
2.根据权利要求1所述的像素结构，其特征在于，所述缺口的宽度为不大于20μm。
3.根据权利要求2所述的像素结构，其特征在于，所述缺口的宽度为10nm～5μm。
4.根据权利要求2所述的像素结构，其特征在于，当所述第一像素腔的长宽比大于1.5时，所述缺口的数量为至少两个。
5.根据权利要求2所述的像素结构，其特征在于，所述缺口为多个，多个所述缺口连续或不连续排列。
6.根据权利要求1-5任一项所述的像素结构，其特征在于，所述第一像素界定层的材料为亲液材料。
7.根据权利要求1-5任一项所述的像素结构，其特征在于，还包括层叠于所述第一像素界定层之上的第二像素界定层；所述第二像素界定层具有与预设像素区域相对应的第二像素腔；所述第二像素界定层由疏液材料制成。
8.权利要求1-7任一项所述的像素结构的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：
获取基板；
在所述基板上涂敷第一像素界定层材料，刻蚀后形成所述第一像素界定层，所述第一像素界定层具有与预设像素区域相对应的第一像素腔，所述第一像素腔的内壁设有至少一个缺口，所述缺口开口于所述第一像素腔；
进行或不进行第二像素界定层的制作，即得所述像素结构；
其中，在所述基板上涂敷第二像素界定层材料，刻蚀后形成所述第二像素界定层，所述第二像素界定层具有与预设像素区域相对应的第二像素腔。
9.一种显示面板，其特征在于，包括权利要求1-7任一项所述的像素结构。
10.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求9所述的显示面板。
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H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的；包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的，或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的；包括有热磁组件的
