[发明专利]用于光催化清洁材料的制备方法在审
| 申请号： | 201710356304.5 | 申请日： | 2017-05-19 |
| 公开（公告）号： | CN107129733A | 公开（公告）日： | 2017-09-05 |
| 发明（设计）人： | 杨盛华 | 申请（专利权）人： | 重庆中鼎三正科技有限公司 |
| 主分类号： | C09D133/04 | 分类号： | C09D133/04;C09D5/14;C09D7/12;C09D5/16 |
| 代理公司： | 成都行之专利代理事务所(普通合伙)51220 | 代理人： | 马碧娜 |
| 地址： | 400000 重庆市九龙坡区石桥铺石杨路*** | 国省代码： | 重庆;85 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 光催化 清洁 材料 制备 方法 | ||
1.用于光催化清洁材料的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：1)首先按照质量比为1:1-4:1-5秤取氯氧铋、溴氧铋和碘氧铋粉末，使其混合均匀形成卤氧铋光催化粉体，待用；2)取适量卤氧铋光催化粉体、纳米二氧化钛溶胶、水性润湿分散剂、水性硅丙乳液和水放入搅拌机中，制得光催化乳浆；3)将步骤2)中的光催化乳浆与水性硅丙乳液、水性润湿分散剂、水性消泡剂、成膜助剂、水性流平剂、缓蚀剂、防霉剂和水混合，在搅拌机中以400-1200rpm转速搅拌10-30min，过滤获得细度小于10微米的光催化清洁材料；所述原料质量份数比为卤氧铋光催化粉体：纳米二氧化钛溶胶：水性硅丙乳液：水性润湿分散剂：水性消泡剂：成膜助剂：水性流平剂：缓蚀：防霉剂：水＝3-8:0.5-1.0:50-55:5:10:0.02-1.0:2-4:0.5-1.2:0.2-0.5:0.02-0.1:20-25。
2.根据权利要求1所述的用于光催化清洁材料的制备方法，其特征在于，所述纳米二氧化钛溶胶中的纳米二氧化钛经过硅烷偶联剂进行改性。
3.根据权利要求1所述的用于光催化清洁材料的制备方法，其特征在于，所述水性润湿分散剂为H-10，所述水性消泡剂为SKC水性消泡剂，所述成膜助剂为1，2-丙二醇，所述水性流平剂为BYK-300，所述缓蚀剂为二甲基乙醇胺，所述防霉剂为HR-0622。
4.根据权利要求1所述的用于光催化清洁材料的制备方法，其特征在于，所述卤氧铋光催化粉体为直径200-500nm的微纳粉末。
5.根据权利要求1所述的用于光催化清洁材料的制备方法，其特征在于，所述纳米二氧化钛溶胶采用溶胶-凝胶工艺制得。
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