[发明专利]基于磁控共同溅射技术在不锈钢基材上制备的装饰性涂层有效
申请号: | 201710343167.1 | 申请日: | 2017-05-16 |
公开(公告)号: | CN107177824B | 公开(公告)日: | 2020-01-03 |
发明(设计)人: | 马丁·森斯;眭凌杰;巫仕才;赖纳·霍夫曼;孙伟明;杨兴磊;张燕聪 | 申请(专利权)人: | 福建新越金属材料科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C23C14/16;C23C14/06;C23C14/10 |
代理公司: | 35213 泉州市博一专利事务所(普通合伙) | 代理人: | 方传榜 |
地址: | 366000 福建省三*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 基于 共同 溅射 技术 不锈钢 基材 制备 装饰性 涂层 | ||
1.基于磁控共同溅射技术在不锈钢基材上制备的装饰性涂层,其特征在于:该装饰性涂层的膜系包含多个化合物涂层,每个单一化合物涂层的涂层厚度在5nm到300nm之间变化,每个化合物涂层化学式(Si:Cr)NX,(Si:Cr)为硅Si和铬Cr之间的比例,指数X在Nx中被描述为与氮N的反应系数,该反应系数X在X=0和X=1之间变化,这里X=0指0%的氮反应以及X=1指100%的氮反应或符合标定化学计量的混合物,每个化合物涂层需要与下方化合物涂层和/或上方化合物涂层有不同的成分比例,硅与铬(Si:Cr)的混合比例不同或反应系数X不同或两者都不同;在包含n个单一化合物涂层的膜系子集下方镀有一个附着层,并且该附着层是由金属铬Cr组成;在包含n个单一化合物涂层的膜系子集上方镀有一个介质层。
2.如权利要求1所述的基于磁控共同溅射技术在不锈钢基材上制备的装饰性涂层,其特征在于:所述附着层AL的涂层厚度在20nm到30nm之间。
3.如权利要求1所述的基于磁控共同溅射技术在不锈钢基材上制备的装饰性涂层,其特征在于:所述介质层DL的涂层厚度在5nm到300nm之间变化。
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