[发明专利]杂化钙钛矿纳米材料在制备全光自旋电子器件中的应用在审
申请号: | 201710340751.1 | 申请日: | 2017-05-15 |
公开(公告)号: | CN106970476A | 公开(公告)日: | 2017-07-21 |
发明(设计)人: | 马红 | 申请(专利权)人: | 山东师范大学 |
主分类号: | G02F1/095 | 分类号: | G02F1/095;G02F1/35 |
代理公司: | 济南圣达知识产权代理有限公司37221 | 代理人: | 张晓鹏 |
地址: | 250014 *** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 杂化钙钛矿 纳米 材料 制备 自旋 电子器件 中的 应用 | ||
1.杂化钙钛矿纳米材料在制备全光自旋电子器件中的应用。
2.杂化钙钛矿纳米材料薄膜在制备磁光隔离器中的应用,其特征在于:所述杂化钙钛矿纳米材料结构为ABX3,其中,A为CH3NH3+、CH(NH2)2+或全无机材料Cs+,B为Pb2+,X为Br-、Cl-和I-中的一种或多种的混合形式。
3.根据权利要求2所述的应用,其特征在于:所述杂化钙钛矿纳米材料薄膜的厚度为80-200nm。
4.一种磁光隔离器,其特征在于:由杂化钙钛矿纳米材料制备而成,所述杂化钙钛矿纳米材料结构为ABX3,其中,A为CH3NH3+、CH(NH2)2+或全无机Cs+,B为Pb2+,X为Br-、Cl-和I-中的一种或多种的混合形式,杂化钙钛矿纳米材料薄膜的厚度为80-200nm。
5.根据权利要求4所述的磁光隔离器,其特征在于:所述磁光隔离器的法拉第旋转角为20-60°/μm。
6.杂化钙钛矿材料薄膜在制备全光开关中的应用,所述杂化钙钛矿纳米材料结构为ABX3,其中,A为CH3NH3+、CH(NH2)2+或全无机Cs+,B为Pb2+,X为Br-、Cl-和I-中的一种或多种的混合形式。
7.根据权利要求6所述的应用,其特征在于:所述杂化钙钛矿纳米材料薄膜的厚度为80-200nm。
8.一种全光开关,其特征在于:由杂化钙钛矿纳米材料制备而成,所述杂化钙钛矿纳米材料结构为ABX3,其中,A为CH3NH3+、CH(NH2)2+或全无机Cs+,B为Pb2+,X为Br-、Cl-和I-中的一种或多种的混合形式,杂化钙钛矿纳米材料薄膜的厚度为80-200nm。
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