[发明专利]一种易铣磨氧化锆陶瓷及其制备方法

权利要求书

1.一种易铣磨氧化锆陶瓷，其特征在于，以四方相为主晶相，四方相的含量在80vol%以上，其余晶相为立方相；所述易铣磨氧化锆陶瓷晶粒具有介观晶体结构，具有介观晶体结构的晶粒内具有纳米气孔；介观晶体结构由纳米雏晶有序兼并而成，纳米雏晶粒径为5至80纳米；具有介观晶体结构的晶粒的粒径为50至400纳米；所述纳米气孔的孔径为5至200纳米，所述纳米气孔占具有介观晶体结构的晶粒体积的0.1至20 vol%；所述易铣磨氧化锆陶瓷中添加有稳定剂，稳定剂用量占氧化锆的摩尔百分比为1.5-5.5mol%，稳定剂为钇的氧化物、镱的氧化物或两者的混合物。

2.根据权利要求1所述的一种易铣磨氧化锆陶瓷，其特征在于，所述易铣磨氧化锆陶瓷中添加有着色剂，着色剂用量占氧化锆的摩尔百分比小于8mol%，着色剂为铈、镨、铒、钕、铕、铁、锰、钴的氧化物中的一种或几种。

3.如权利要求1所述的易铣磨氧化锆陶瓷的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

（1）纳米雏晶有序兼并形成具有介观晶体结构的晶粒；

（2）具有介观晶体结构的晶粒均匀紧密堆积成素坯；

（3）素坯烧结致密生成纳米陶瓷块材。

4.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，纳米雏晶有序兼并形成具有介观晶体结构的晶粒采用共沉淀法或水热水解法实现。

5.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，具有介观晶体结构的晶粒均匀紧密堆积成素坯通过干法轴向压块或压块后等静压或直接等静压实现或具有介观晶体结构的晶粒均匀紧密堆积成素坯通过湿法凝㬵注模、湿法凝㬵注浆或离心成型实现。

6.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，步骤（3）中烧结采用微波或红外辐射加热高速烧结，升温速率为30-200℃/min，能量密度大于3×10⁵ W/m²。